臺積電保持觀望 ASML最新EUV機臺只賣了5臺

荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續制程中導入。

路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現有最昂貴設備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。

臺積電技術開發資深副總經理張曉強表示，即便不使用High-NA EUV設備，A14制程仍能實現顯著的技術升級。 「因此，我們的技術團隊將持續專注于微縮（scaling）效益的開發，并致力于延長現有Low-NA EUV（低數值孔徑極紫外光）微影設備的使用壽命。」

張曉強坦言：「只要我們能持續找到替代方案，就沒有必要采用這款昂貴的設備。」事實上，早在去年，張曉強就曾公開表示，他對High-NA EUV技術抱持肯定態度，但對其價格感到卻步。

相較之下，臺積電競爭對手英特爾，已經計劃在未來制程「14A」當中，使用High-NA EUV機臺，并且試圖藉此來振興晶圓代工事業，提升對臺積電的競爭力。 然而，英特爾也強調，客戶仍然可以選擇使用舊款且經過驗證的技術。

阿斯麥執行長福凱特（Christophe Fouquet）日前在法說會上提到，預計客戶將于2026年至2027年間進行高NA設備的量產準備測試，屆時業界才有可能考慮在最先進的制程中全面導入。

目前，阿斯麥已向三家客戶交付總共5臺高NA設備，包括英特爾、臺積電以及韓國三星。 這機臺重達180噸、體積如同雙層巴士，堪稱全球最昂貴的半導體制造設備之一。