臺積電2nm良率曝光
在技術驅動型產業中,半導體行業始終走在全球科技變革的最前沿。2024年,臺積電(TSMC)正式啟動2nm制程(N2)試產,每片晶圓的代工報價高達3萬美元,再次引發行業廣泛關注。最新數據顯示,得益于存儲芯片領域的技術優化,臺積電2nm制程自去年7月在新竹寶山晶圓廠風險試產以來,良率從去年底的60%快速攀升至當前的90%(256Mb SRAM)。
本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202506/471122.htm從3nm節點的初期投產經驗看,良率爬坡是一大挑戰。但憑借3nm節點200萬片晶圓的量產經驗,將2nm工藝開發周期壓縮至18個月,良率僅用9個月便從30%提升至60%,預計年底將具備每月5萬至8萬片晶圓的投片能力。此外,臺積電收到的2nm工藝流片(芯片設計驗證階段)數量是5nm工藝的四倍,顯示出市場對2nm工藝的強烈需求。臺積電N2的商用化將全球芯片設計企業推向新一輪“競速賽”,AMD、英偉達、聯發科、高通和蘋果等關鍵客戶均已鎖定2nm產能。
蘋果作為臺積電的最大客戶,預計明年iPhone 18 Pro搭載的A20處理器將是首款基于臺積電N2制程的芯片,并擴展至Mac系列的M6處理器。
AI爆炸式增長驅動臺積電
臺積電在2nm制程研發上的投資規模前所未有,其在新竹寶山、高雄等地新建2nm生產線的初期資本支出超過400億美元,僅2023年研發投入就高達57.6億美元,占其全年營收的9%以上。2nm制程標志著臺積電首次引入全環繞柵極(GAA)晶體管架構,即納米片(nanosheet)技術,取代此前長期主導的FinFET晶體管。在性能方面,據臺積電官方數據,N2相較于N3E可在相同功耗下提升10-15%的性能,或在相同性能下降低25-30%的功耗,并使晶體管密度提升達1.7倍。
自2025年5月底以來,臺積電股價近一個月上漲近20%。這背后的動力,正是AI芯片爆炸式增長帶來的訂單激增。2025年Q1,其營收達257.8億美元,同比增長41%,其中59%來自AI驅動的高性能計算(HPC)領域。臺積電預計其AI相關營收在未來五年將保持年均增長45%,帶動整體營收接近20%的年復合增長率。
更高的晶體管密度意味著在相同面積下可以實現更多功能集成,特別是在AI推理、圖像處理、高性能計算等領域表現尤為突出。麥肯錫預測,到2030年全球AI芯片市場規模將超1000億美元,占據整個半導體市場的約15%。在這一背景下,N2有望成為AI硬件堆棧的核心支撐技術。
臺積電還計劃在明年下半年推出N2P和N2X,以延續N2的領先優勢。預計N2P在相同功耗水平下性能將比N3E提升18%,在相同速度下能源效率將提高36%,邏輯密度也將顯著提升。N2X計劃于2027年量產,其最高時鐘頻率將提高10%。
然而,這種飛躍式提升也帶來了顯著的制造復雜度和成本激增,整個工藝流程超過2000道制程步驟,對設備精度、環境控制、材料純度的要求遠超前代節點。這不僅對芯片設計公司提出前所未有的經濟門檻,也對下游產品(尤其是智能手機、服務器、AI加速器等)的成本結構造成深遠影響。預計到2025年,臺積電將進一步推動1.4nm制程節點,其晶圓價格或突破4.5萬美元,半導體“技術通脹”的趨勢愈發明顯。
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