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ASML 和 SK hynix 在韓國(guó)的工廠組裝了業(yè)界首個(gè)“商用”High NA EUV 系統(tǒng)
- ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實(shí)現(xiàn) 8 納米分辨率——而當(dāng)前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過昂貴的多重圖形匹配來達(dá)到這一效果，但 High-NA EUV 簡(jiǎn)化了光刻步驟，盡管這帶來了新的技術(shù)挑戰(zhàn)。鑒于 High-NA EUV 機(jī)器的能力，芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配，因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進(jìn)下一
- 關(guān)鍵字： EUV 光刻機(jī) ASML 海力士
美國(guó)對(duì)ASML設(shè)備免征15%的關(guān)稅
- 近日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML宣布，其新一代高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)EXE:5200已正式出貨，標(biāo)志著該技術(shù)已準(zhǔn)備好投入批量生產(chǎn)。根據(jù)最新報(bào)道，美國(guó)與歐盟委員會(huì)主席簽署的貿(mào)易協(xié)定中，對(duì)進(jìn)入美國(guó)的歐洲制造商品征收15%的關(guān)稅，但半導(dǎo)體制造設(shè)備等特定商品在零關(guān)稅安排下可享受豁免。這意味著ASML的設(shè)備在美國(guó)市場(chǎng)不會(huì)因關(guān)稅上漲而增加成本。報(bào)告指出，若對(duì)ASML設(shè)備征收15%的關(guān)稅，每臺(tái)DUV系統(tǒng)的成本將增加約1300萬美元，每臺(tái)EUV設(shè)備的成本將增加高達(dá)4000萬美元，這將大幅增加英特爾、三星和臺(tái)積電等企業(yè)的
- 關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體設(shè)備 關(guān)稅
歐盟晶圓廠設(shè)備制造商在歐盟-美國(guó)關(guān)稅協(xié)議中獲得暫緩——阿斯麥等公司將被免征15%關(guān)稅
- （圖片來源：ASML）美國(guó)總統(tǒng)和歐洲委員會(huì)主席本周早些時(shí)候簽署的貿(mào)易協(xié)議對(duì)幾乎所有在歐洲制造并運(yùn)往美國(guó)的商品征收 15%的關(guān)稅，但有幾類產(chǎn)品將免稅，包括半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備，這些設(shè)備將享受零關(guān)稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產(chǎn)的工具在美國(guó)不會(huì)變得更貴。歐洲委員會(huì)的一份聲明稱：“我們還就一些戰(zhàn)略產(chǎn)品達(dá)成了零關(guān)稅的協(xié)議。” 聲明中寫道。“這包括所有飛機(jī)及其零部件、某些化學(xué)品、某些通用藥品、半導(dǎo)體設(shè)備、某些農(nóng)產(chǎn)品、自然資源和關(guān)鍵原材料。我們將繼續(xù)努力將更多產(chǎn)品添加到這個(gè)清單中。”如果美國(guó)對(duì) ASML 生
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ASML 警告 2026 年增長(zhǎng)停滯，地緣政治風(fēng)險(xiǎn)威脅十年發(fā)展
- 根據(jù)路透社報(bào)道，ASML 今日發(fā)布了其 2025 年第二季度的財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)。雖然第二季度訂單量超出了市場(chǎng)預(yù)期，但該公司警告稱，2026 年的增長(zhǎng)可能將達(dá)不到預(yù)期。如其 新聞稿所述，ASML 指出，雖然人工智能客戶的基本面在進(jìn)入 2026 年時(shí)保持強(qiáng)勁，但宏觀經(jīng)濟(jì)和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認(rèn) 2026 年的增長(zhǎng)。如果這種情況發(fā)生，2026年將成為自2012年以來首次沒有收入增長(zhǎng)的一年——路透社指出，打破了不間斷增長(zhǎng)的記錄。同時(shí)，ASML 表示，現(xiàn)在預(yù)計(jì) 2025 年全年凈銷售
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機(jī) 財(cái)報(bào)
ASML發(fā)布2025年第二季度財(cái)報(bào)
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ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機(jī)
- 據(jù)外媒報(bào)道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動(dòng)研發(fā)分辨率可達(dá)5納米的Hyper NA光刻機(jī)設(shè)備。ASML技術(shù)執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機(jī)將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進(jìn)的光刻機(jī)，其單次曝光分辨率可達(dá)8納米，相比舊款設(shè)備需要多次曝光才能實(shí)現(xiàn)類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進(jìn)行設(shè)計(jì)研究，目標(biāo)是開發(fā)數(shù)值孔徑（NA）達(dá)到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學(xué)系統(tǒng)聚焦能力的重要指標(biāo)，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長(zhǎng)
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ASML杯光刻「芯 」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽正式啟動(dòng)
- 這是一場(chǎng)追光人的技術(shù)狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發(fā)出光刻英雄帖，集結(jié)菁英光刻「芯」勢(shì)力與ASML共尋技術(shù)之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢(shì)力知識(shí)挑戰(zhàn)賽由全球半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)先供應(yīng)商ASML發(fā)起，是一項(xiàng)面向中國(guó)半導(dǎo)體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領(lǐng)域的技術(shù)積累與行業(yè)洞察，賽事致力于為參賽者打造一個(gè)深度探索光刻技術(shù)的知識(shí)競(jìng)技窗口，同時(shí)培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢(shì)力，共同推動(dòng)摩爾定律演進(jìn)。本次挑戰(zhàn)賽聚焦光刻技術(shù)教育普及，通過涵蓋光學(xué)、物理學(xué)知識(shí)的專業(yè)試題帶領(lǐng)參賽者深入了解光刻機(jī)、計(jì)算光刻、量測(cè)等
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臺(tái)積電保持觀望 ASML最新EUV機(jī)臺(tái)只賣了5臺(tái)
- 荷蘭阿斯麥（ASML）全新機(jī)臺(tái)卻讓臺(tái)積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設(shè)備性能強(qiáng)大，但因這款機(jī)臺(tái)單價(jià)高達(dá)4億美元，臺(tái)積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時(shí)沒有計(jì)畫在A14及其后續(xù)制程中導(dǎo)入。路透27日?qǐng)?bào)導(dǎo)，這款先進(jìn)機(jī)臺(tái)價(jià)格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現(xiàn)有最昂貴設(shè)備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細(xì)評(píng)估，這款設(shè)備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價(jià)格。臺(tái)積電技術(shù)開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強(qiáng)表示，即便不使用High-N
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臺(tái)積電仍在評(píng)估ASML的“High-NA”，因?yàn)橛⑻貭栁磥頃?huì)使用
- 全球最大的合同芯片制造商臺(tái)積電制造股份有限公司 （2330.TW） 仍在評(píng)估何時(shí)將 ASML 的尖端高數(shù)值孔徑 （NA） 機(jī)器用于其未來的工藝節(jié)點(diǎn)，一位高管周二表示。芯片制造商正在權(quán)衡這些價(jià)值近 4 億美元的機(jī)器的速度和精度優(yōu)勢(shì)何時(shí)會(huì)超過芯片制造廠中最昂貴的設(shè)備幾乎翻倍的價(jià)格標(biāo)簽。當(dāng)被問及臺(tái)積電是否計(jì)劃將這臺(tái)機(jī)器用于其即將推出的 A14 和未來節(jié)點(diǎn)的增強(qiáng)版本時(shí)，Kevin Zhang 表示，該公司尚未找到令人信服的理由。“A14，我所說的增強(qiáng)，在不使用 High-NA 的情況下非常可觀。因此，我們的技術(shù)團(tuán)
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光罩圖形化：電子束光刻發(fā)展之路
- ASML 的光學(xué)投影光刻機(jī)的熱度經(jīng)久不衰，伴隨著 High NA EUV 光刻機(jī)和國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)概念引發(fā)的關(guān)注，各種行業(yè)研報(bào)層出不窮。相比之下，電子束光刻的賽道就顯得冷清了。除了常規(guī)的科研方向的應(yīng)用外，小規(guī)模試產(chǎn)，量子芯片也是電子束光刻機(jī)的主要應(yīng)用。而光罩廠中的光罩圖形化，則是當(dāng)下電子束光刻最重要的用途，其重要性絲毫不亞于 ASML 的各型光刻設(shè)備。電子束與光：殊途同歸電子本身所具有的波粒二象性決定了，更高的能量下，其具有的更高的頻率能夠等效于更小的波長(zhǎng)。當(dāng)電子束的能量為 100keV 時(shí)
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ASML計(jì)劃在荷蘭大規(guī)模擴(kuò)張，助力EUV設(shè)備交付
- 據(jù)荷蘭媒體報(bào)道，ASML計(jì)劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發(fā)展計(jì)劃初步草案時(shí)透露的。這一擴(kuò)張計(jì)劃引發(fā)了全球晶圓制造行業(yè)的廣泛關(guān)注。據(jù)Tom's Hardware報(bào)道，臺(tái)積電、英特爾和三星電子等半導(dǎo)體巨頭或?qū)闹惺芤妗SML的擴(kuò)張如果能按計(jì)劃推進(jìn)，將有助于滿足全球?qū)O紫外光（EUV）光刻設(shè)備的迫切需求，從而加速先進(jìn)制程的開發(fā)與應(yīng)用。Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)的擴(kuò)張計(jì)劃大約在一年前首次公開。據(jù)荷蘭消
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ASM宣布將啟動(dòng)美國(guó)本土生產(chǎn)以應(yīng)對(duì)關(guān)稅壓力
- 據(jù)媒體報(bào)道，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASM International（簡(jiǎn)稱“ASM”）在2025年第一季度財(cái)報(bào)電話會(huì)議上宣布，將立即啟動(dòng)在美國(guó)本土的生產(chǎn)計(jì)劃，以應(yīng)對(duì)美國(guó)近期實(shí)施的關(guān)稅政策。今年4月初，美國(guó)總統(tǒng)特朗普簽署了一項(xiàng)“對(duì)等關(guān)稅”行政令，宣布對(duì)包括荷蘭在內(nèi)的歐盟成員國(guó)加征25%的鋼鐵、鋁和汽車進(jìn)口關(guān)稅，其他商品則面臨20%的關(guān)稅。這一政策覆蓋了歐盟對(duì)美出口的約70%，總價(jià)值高達(dá)5320億歐元。此外，特朗普還計(jì)劃對(duì)暫時(shí)豁免的藥品、半導(dǎo)體等產(chǎn)品單獨(dú)加征關(guān)稅。為避免關(guān)稅影響，ASM首席財(cái)務(wù)官Paul Ver
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地都賣了，三星電子與ASML半導(dǎo)體研發(fā)合作還能繼續(xù)嗎？
- 三星電子和ASML曾于2023年12月宣布共同投資7億歐元（約1萬億韓元），在大都市地區(qū)建立極紫外（EUV）研究中心，致力于打造面向未來的半導(dǎo)體制造設(shè)備以保持三星在先進(jìn)工藝制程技術(shù)的領(lǐng)先性。針對(duì)這次合作，ASML特別與韓國(guó)土地住宅公社（LH）簽訂了在京畿道華城購(gòu)買6個(gè)地塊（約 19,000 平方米）的合同以建設(shè)研發(fā)中心。不過最近這項(xiàng)計(jì)劃可能出現(xiàn)了一些變動(dòng)， ASML最近出售了其中的兩塊地塊，并且正在處理另外兩塊地塊。盡管還剩下兩個(gè)地塊，但ASML似乎沒有計(jì)劃在剩余的空間里與三星建立研發(fā)中心。 ASML 是
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ASML發(fā)布2025年第一季度財(cái)報(bào)
- 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2025年第一季度財(cái)報(bào)。2025年第一季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額77億歐元，毛利率為54%，凈利潤(rùn)達(dá)24億歐元。第一季度的新增訂單金額為39億歐元2，其中12億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2025年第二季度凈銷售額在72億至77億歐元之間，毛利率介于50%至53%3；對(duì)2025年展望保持不變，預(yù)計(jì)全年凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%至53%。（除非特別說明，數(shù)字均以百萬歐元為單位）2024年第四季度2025年第一季度凈銷售額9,2637,742其中裝
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半導(dǎo)體危險(xiǎn)警訊？ ASML訂單慘崩近半
- 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備龍頭阿斯麥（ASML）今（16）日公布出第一季財(cái)報(bào)，顯示訂單金額大幅縮水至39.4億歐元，較上季銳減44.5%，凸顯半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)需求放緩的隱憂，也讓市場(chǎng)關(guān)注明（17）日臺(tái)積電的法說會(huì)。CNBC報(bào)導(dǎo)，ASML第一季凈銷售額為77.4億歐元，凈利達(dá)23.6億歐元，訂單金額為39.4億歐元，低于市場(chǎng)預(yù)期的48.2億歐元，較前季大幅衰退44.5%，其中極紫外光微影（EUV）機(jī)臺(tái)訂單金額為12億歐元。盡管訂單金額大減，但ASML執(zhí)行長(zhǎng)傅凱（Christophe Fouquet）表示，需求前景依然強(qiáng)勁，A
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