• <li id="00i08"><input id="00i08"></input></li>
  • <sup id="00i08"><tbody id="00i08"></tbody></sup>
    <abbr id="00i08"></abbr>
  • 新聞中心

    EEPW首頁 > EDA/PCB > 業界動態 > 臺積電稱其已解決造成40nm制程良率不佳的工藝問題

    臺積電稱其已解決造成40nm制程良率不佳的工藝問題

    作者: 時間:2010-01-21 來源:digitimes 收藏

      據公司高級副總裁劉德音最近在一次公司會議上表示,制程工藝的良率已經提升至與現有制程相同的水平,他并表示公司已經完美解決了先前造成制程良率不佳的工藝腔匹配(Chamber matching)問題.

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/105371.htm

     

      19日舉辦了一場慶祝Phase5新廠房完工的慶典儀式,這間廠房隸屬于新竹科技園區的臺積電Fab12工廠.據悉新完工的Phase5廠房將于今年第三季度起開始批量投產28nm制程產品。

      另據劉德音表示,臺積電正在計劃興建Fab12 Phase6廠房,這座Phase6廠房將用于生產22nm制程產品。



    關鍵詞: 臺積電 40nm 65nm

    評論


    相關推薦

    技術專區

    關閉
    主站蜘蛛池模板: 玉溪市| 黄平县| 大埔县| 太湖县| 永新县| 会理县| 勐海县| 丰台区| 葫芦岛市| 永清县| 东乌珠穆沁旗| 镇巴县| 承德市| 吐鲁番市| 正镶白旗| 屏东市| 绥中县| 玛沁县| 乌兰浩特市| 雷州市| 河间市| 石门县| 石泉县| 铜川市| 高平市| 高州市| 浏阳市| 大埔区| 灵武市| 安仁县| 扶余县| 广德县| 同德县| 武鸣县| 喀喇沁旗| 神池县| 夏河县| 大石桥市| 老河口市| 营口市| 赣州市|