ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同

　　近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發關注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機。”但是這一說法很快被ASML官方澄清，該協議與DUV光刻技術的現有協議相關。
　　可能很多網友看到這里有點蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普，EUV和DUV到底有啥區別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實際上也是如此。

　　ASML澄清與中芯國際交易細節

　　一般來講，DUV基本上只能做到25nm，Intel憑借雙工作臺的模式做到了10nm，但是卻無法達到10nm以下。只有EUV能滿足10nm以下的晶圓制造，并且還可以向5nm、3nm繼續延伸。事實上EUV光刻機的出現，確實是幫助業界突破7nm制程的一個關鍵。
　　當年不是傳說已經翻車的武漢弘芯曾經擁有也是國內唯一一臺可以用于生產7nm芯片的EUV光刻機嘛，但還沒啟用就拉去銀行抵押貸款了。這一事件曾經一度引起業界轟動，并作為人們茶余飯后的談資流傳至今，由此可見7nm EUV光刻機是多么關鍵的存在。

　　ASMLEUV光刻機

　　好了，回到正題。關于中芯國際和ASML雙方的聲明，到底該如何理解呢？愚鈍的小編思考了半天，大致理解為他們說的其實是“除了EUV都能”和“僅限現有DUV”的區別，乍看之下再聯想到目前的現狀這兩者其實沒什么區別，但是ASML的說法更嚴謹一些。
　　因為如果未來技術更先進了，又出來一個"FUV"光刻機呢，那“除了EUV都可以”的說法是存在漏洞的。或者ASML技術爆發了，通過DUV技術就做到了1nm先進工藝，所以ASML非常嚴謹的設立定了兩個限制條件："該協議與DUV光刻技術的現有協議相關。"

　　中芯國際采購的是DUV光刻機