低端光掩模 文章 最新資訊

三星外包低端光掩模，將資源集中在ArF和EUV上

• 據(jù) The Elec 報(bào)道，三星計(jì)劃外包用于存儲(chǔ)芯片制造的光掩模的生產(chǎn)。到目前為止，該公司一直在內(nèi)部生產(chǎn)所有光掩模，以防止技術(shù)泄漏。Elec 表示，據(jù)報(bào)道，三星正在評(píng)估低端光掩模的潛在供應(yīng)商，例如 i-line 和 KrF。與此同時(shí)，消息人士稱，三星計(jì)劃將 i-line 和 KrF 光掩模外包，以便將這些資源重新分配給 ArF 和 EUV。正如報(bào)告所強(qiáng)調(diào)的那樣，ArF 和 EUV 光掩模更先進(jìn)，將成為增強(qiáng)三星技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力的關(guān)鍵。據(jù) Business Korea 援引消
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