臺積電OIP推3D IC設計新標準

臺積電OIP（開放創新平臺）于美西當地時間25日展開，除表揚包括力旺、M31在內之業者外，更計劃推出3Dblox新標準，進一步加速3D IC生態系統創新，并提高EDA工具的通用性。 臺積電設計構建管理處負責人Dan Kochpatcharin表示，將與OIP合作伙伴一同突破3D IC架構中的物理挑戰，幫助共同客戶利用最新的TSMC 3DFabric技術實現優化的設計。

臺積電OIP生態系統論壇今年由北美站起跑，與設計合作伙伴及客戶共同探討如何通過更深層次的合作，推動AI芯片設計的創新。 Dan Kochpatcharin強調，「我們正在迎來一個AI驅動的時代，對高效能AI芯片的需求在數據中心等領域不斷攀升。 臺積的技術創新正在為人工智能解鎖巨大潛力。」
利用AI和機器學習技術，顯著提高3D IC設計的生產力，并優化設計的功耗、性能和面積（PPA），以及設計結果的質量（QoR）。 透過與OIP伙伴的緊密合作，臺積電正在解決3D IC架構物理現象的挑戰，并利用最新的臺積電3DFabric技術推動創新。
臺積電作為3Dblox委員會核心成員，積極推動3Dblox標準的發展。 臺積電透露，計劃將該標準通過IEEE公開發布，使更多的合作伙伴、客戶和晶圓廠更容易使用3Dblox，推動AI技術的發展。
AWS、博通（Broadcom）及Socionext等公司均對臺積電的技術創新表示贊賞。 其中，博通更于本月推出業界首款基于臺積電5納米制程的Face-to-Face 3D SoIC裝置，采用3D堆疊和CoWoS-R封裝技術，整合9個芯片和六個HBM堆疊，為2025年即將進行的3D SoIC量產奠定基礎。
臺積電硅智財合作伙伴力旺之NeoFuse OTP在臺積電N7與N6成功量產、并贏得N5、N5A、N4P節點的設計案; M31更宣布ONFi5.1 I/O IP在臺積電5納米制程平臺上成功完成硅驗證，并向3納米持續發展。
透過與OIP伙伴緊密合作，臺積電積極推動3D IC設計的創新，致力于為全球市場提供最先進的AI芯片解決方案; 隨著技術的不斷演進，臺積電繼續引領半導體產業的發展，為未來AI應用提供無限可能。