EUV機臺被砍單？ 業界：不太可能

終端市場需求低迷，近期市場傳出臺積電將宣布調降今年資本支出，恐沖擊艾司摩爾（ASML）及應用材料等設備廠出貨，甚至傳出艾司摩爾極紫外光（EUV）機臺被砍單消息，不過業界普遍認為可能性不高，原因在于EUV機臺交期長達12～15個月，且中長期來看EUV產能仍供不應求。

ASML預計19日舉行法人說明會，可望針對EUV曝光機已接訂單（backlog）變化提出說明。半導體生產鏈仍在進行庫存調整，市場傳出臺積電可能在法人說明會中下修全年資本支出，加上內存廠放慢擴產計劃，將導致EUV曝光機訂單減少或延后，受此消息影響，EUV概念股家登、帆宣17日股價明顯有壓。

不過，業界人士對于EUV曝光機被砍單消息有所質疑，主要原因在于EUV設備是屬于訂制化生產，且設備系統交期長達12～15個月，所以采購EUV機臺是屬于中長期的產能規劃，并不會因為短期的景氣循環波動而砍單。

以目前主流的0.33數值孔徑（NA）來說，5納米邏輯制程每片晶圓平均EUV光罩層逾10層，但3納米邏輯制程每片晶圓平均EUV光罩層約將倍增達20層以上，而EUV機臺每小時晶圓產出（throughput）提升緩慢，隨3納米制程開始導入量產，反而需要更多機臺因應產能提升及制程微縮，整體EUV產能仍供不應求。

業者表示，短期景氣循環沖擊半導體廠資本支出，但臺積電、英特爾、三星等大廠在先進制程的投資并沒有縮減，所以EUV曝光機交期也沒有因近期景氣變動而縮短。目前業界普遍認為市場景氣下半年緩步復蘇，明年進入新的成長循環，所以不太可能在這個時間點對EUV機臺砍單。