SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎。
根據這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統的特定模塊或半導體行業相關產品進行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發中心(ICRD)宣布合作之后，進一步深入參與中國的IC產業的發展。
光刻機被稱
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光刻機 ASML
3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(SMEE)宣布，與世界領先的芯片制造設備的領先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎。
根據這項合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統的特定模塊或半導體行業相關產品進行采購的可能性。
“全球IC行業都在積極尋求技術藍圖進來一步縮小芯片尺寸，為商業和消費者用戶提供更性能更強但節能的電子組件。這一技術藍圖的有效執行需要精密復雜的制造技術，這只能靠各領先公司、研究機構和院
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SMEE ASML
摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來，全球半導體產業均能朝此一定律規則前進發展，過去數十年來包括光微影技術(Photolithography)等一系列制程技術持續的突破，才得以讓半導體產業能依照摩爾定律演進，進而帶動全球科技產業研發持續前進。
但為延續產業良性發展，光是依賴于傳統微影技術仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進行一次重大且最具挑戰的變革，即發展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術，該技術也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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ASML EUV
日本光學及半導體設備大廠尼康(Nikon)未來可能進行人事調整，以數位相機及半導體設備事業為主，希望轉型重建企業經營。
根據報導，日本半導體事業始于日本政府的產業計劃，1970年代由官方與民間合作的結果，建立了從半導體設備到半導體生產線的完整事業。當時名為日本光學工業的尼康，借其光學技術推出先進的曝光裝置，制造精密半導體的線路，是日本半導體產業在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。
但是，1984年從荷蘭電機大廠飛利浦(Philips)獨立的ASML，由于積極與外界學校及廠商合作，
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尼康 ASML
全球芯片光刻技術領導廠商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權，以強化雙方在半導體光刻技術方面的合作，發展下一代EUV光刻系統，讓半導體行業得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒有進一步股權交換的計劃。
Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長期策略合作伙伴，30 多年來，為ASML的光刻設備提供最關火鍵
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ASML 蔡司
荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導體產業所面臨的問題：如何一面讓晶片保持現有尺寸，一面增加它們的性能。
半導體產業的過去發展均照著摩爾定律在走，這個由英特爾共同創辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統微處理器的電晶體數目倍增，且性能也會隨之提升。
不過，英特爾執行長科再奇去年警告，經過幾十年的快速發展，未來半導體業每隔兩年半業才會出現過去那種進展。
ASML則相信自家突破性的技術，能延后半導體產業步入衰敗期的時間。主導ASML相關業務的梅靈
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ASML 摩爾定律
盡管與國外大廠有技術差距，但國內的設備廠商正處于一個進步、崛起的階段。
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半導體 ASML
北京時間9月8日消息，據路透社報道，三星電子周四表示，將出售荷蘭半導體設備制造商ASML控股的部分股份。
交易條款清單顯示，三星將以大約6.06億歐元出售630萬股ASML股票。三星并未披露此次交易的財務條款。
三星稱，此次股份出售不會影響兩家公司的戰略伙伴關系。三星在8月16日提交的監管文件中稱，公司持有1260萬股ASML股票，持股比例為2.9%。
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三星 ASML
半導體設備廠商不只大者恒大，市占愈發傾向于大廠，如果科林與艾司摩爾并購案順利通過，未來半導體設備廠商三強鼎立的局面或也可能出現。
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ASML 漢微科
全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進的極紫外光(EUV)已連續四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統出貨。
EUV堪稱半導體設備發展以來最昂貴的設備，一臺售價高達9,000 萬歐元(約新臺幣36億元)，這項設備也是半導體產業向更先進制程發展最關鍵設備，因此發展進度，一直各界關注焦點。
臺積電共同執行長暨劉德音表示，臺積電本季將會再增購一臺EUV設備，不過臺積電將會于5奈米制程才會導入生產
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ASML 臺積電
微影設備制造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶十五部EUV機臺訂單，并將于今年底開始陸續出貨;同時間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術的商用發展揭橥新的里程碑。
極紫外光微影(EUV Lithography)技術發展大有斬獲。半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布，該公司與美國一家主要客戶已簽屬協議書，將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統機臺，以支援不斷增加的制程開發活動和未來世代制程的試量產。
雙方交易
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ASML 微影系統
在電子業追求高速發展的今天，英特爾要放慢研發腳步了，這是表演的哪一出？當今技術進步付出的代價成級數級上升，效率的進步以及難以抵消研發的投入，所以需要放慢腳步，找到真正能夠降低成本的方式。
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英特爾 ASML
歐洲最大半導體設備供應商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預估第1季營收低于預期，并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統訂單的箝制。
艾司摩爾今天在聲明稿中指出，預期2014年前3個月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下，彭博社匯編12位分析師的預測均值為17.1億歐元。艾司摩爾預測毛利率42%左右，相較于調查預估中值42.5%。
艾司摩爾指出，首季利潤率預測包括EUV系統的負面影響，若不含EUV，利潤率將提高1.9個百分點。在
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ASML 半導體設備
艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設立先進曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導體產業突破10奈米(nm)以下先進奈米曝光制程技術關卡，讓微影(Lithography)技術及其設備更臻成熟，加速制程微縮技術的商用化。
ASML總裁暨執行長Martin van den Brink表示，長期以來，該公司與IMEC的合作，已促成半導體制程發展不斷突破;而此次的合作案，預期將進一步加快先進奈米制程技術及其相關設備
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微影設備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機臺技術的生產效率，在2012年購并光源供應商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達55瓦，每小時晶圓產出片數為43片，預計2013年底前，可達到80瓦的目標，2015年達250瓦、每小時產出125片。
半導體生產進入10納米后，雖然可采用多重浸潤式曝光方式，但在一片晶圓上要進行多次的微影制程曝光，將導致生產流程拉長，成本會大幅墊高，半導體大廠為
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