ASML 的 Twinscan EXE:5200N 配備 0.55 NA 鏡頭，實現 8 納米分辨率——而當前 Low-NA EUV 工具的分辨率僅為 13 納米——使得單次曝光下晶體管尺寸縮小 1.7 倍，晶體管密度提高 2.9 倍。雖然 Low-NA 工具可以通過昂貴的多重圖形匹配來達到這一效果，但 High-NA EUV 簡化了光刻步驟，盡管這帶來了新的技術挑戰。鑒于 High-NA EUV 機器的能力，芯片制造商可以避免雙重或三重 EUV 圖形匹配，因此 NXE:5200B 將首先用于快速推進下一
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EUV 光刻機 ASML 海力士
近日，荷蘭半導體設備制造商ASML宣布，其新一代高數值孔徑EUV光刻機EXE:5200已正式出貨，標志著該技術已準備好投入批量生產。根據最新報道，美國與歐盟委員會主席簽署的貿易協定中，對進入美國的歐洲制造商品征收15%的關稅，但半導體制造設備等特定商品在零關稅安排下可享受豁免。這意味著ASML的設備在美國市場不會因關稅上漲而增加成本。報告指出，若對ASML設備征收15%的關稅，每臺DUV系統的成本將增加約1300萬美元，每臺EUV設備的成本將增加高達4000萬美元，這將大幅增加英特爾、三星和臺積電等企業的
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ASML 半導體設備 關稅
（圖片來源：ASML）美國總統和歐洲委員會主席本周早些時候簽署的貿易協議對幾乎所有在歐洲制造并運往美國的商品征收 15%的關稅，但有幾類產品將免稅，包括半導體生產設備，這些設備將享受零關稅。因此，像 ASML 這樣的公司生產的工具在美國不會變得更貴。歐洲委員會的一份聲明稱：“我們還就一些戰略產品達成了零關稅的協議。” 聲明中寫道。“這包括所有飛機及其零部件、某些化學品、某些通用藥品、半導體設備、某些農產品、自然資源和關鍵原材料。我們將繼續努力將更多產品添加到這個清單中。”如果美國對 ASML 生
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ASML 光刻機 關稅
根據路透社報道，ASML 今日發布了其 2025 年第二季度的財務業績。雖然第二季度訂單量超出了市場預期，但該公司警告稱，2026 年的增長可能將達不到預期。如其 新聞稿所述，ASML 指出，雖然人工智能客戶的基本面在進入 2026 年時保持強勁，但宏觀經濟和地緣政治因素的上升不確定性使得目前難以確認 2026 年的增長。如果這種情況發生，2026年將成為自2012年以來首次沒有收入增長的一年——路透社指出，打破了不間斷增長的記錄。同時，ASML 表示，現在預計 2025 年全年凈銷售
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據外媒報道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動研發分辨率可達5納米的Hyper NA光刻機設備。ASML技術執行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進的光刻機，其單次曝光分辨率可達8納米，相比舊款設備需要多次曝光才能實現類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是開發數值孔徑（NA）達到0.7或更高的系統。數值孔徑是衡量光學系統聚焦能力的重要指標，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長
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ASML 5納米 Hyper NA 光刻機
這是一場追光人的技術狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發出光刻英雄帖，集結菁英光刻「芯」勢力與ASML共尋技術之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢力知識挑戰賽由全球半導體行業領先供應商ASML發起，是一項面向中國半導體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領域的技術積累與行業洞察，賽事致力于為參賽者打造一個深度探索光刻技術的知識競技窗口，同時培養優秀科技「芯」勢力，共同推動摩爾定律演進。本次挑戰賽聚焦光刻技術教育普及，通過涵蓋光學、物理學知識的專業試題帶領參賽者深入了解光刻機、計算光刻、量測等
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荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續制程中導入。路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現有最昂貴設備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。臺積電技術開發資深副總經理張曉強表示，即便不使用High-N
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全球最大的合同芯片制造商臺積電制造股份有限公司 （2330.TW） 仍在評估何時將 ASML 的尖端高數值孔徑 （NA） 機器用于其未來的工藝節點，一位高管周二表示。芯片制造商正在權衡這些價值近 4 億美元的機器的速度和精度優勢何時會超過芯片制造廠中最昂貴的設備幾乎翻倍的價格標簽。當被問及臺積電是否計劃將這臺機器用于其即將推出的 A14 和未來節點的增強版本時，Kevin Zhang 表示，該公司尚未找到令人信服的理由。“A14，我所說的增強，在不使用 High-NA 的情況下非常可觀。因此，我們的技術團
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臺積電 ASML “High-NA”
ASML 的光學投影光刻機的熱度經久不衰，伴隨著 High NA EUV 光刻機和國產光刻機概念引發的關注，各種行業研報層出不窮。相比之下，電子束光刻的賽道就顯得冷清了。除了常規的科研方向的應用外，小規模試產，量子芯片也是電子束光刻機的主要應用。而光罩廠中的光罩圖形化，則是當下電子束光刻最重要的用途，其重要性絲毫不亞于 ASML 的各型光刻設備。電子束與光：殊途同歸電子本身所具有的波粒二象性決定了，更高的能量下，其具有的更高的頻率能夠等效于更小的波長。當電子束的能量為 100keV 時
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據荷蘭媒體報道，ASML計劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產業園區。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發展計劃初步草案時透露的。這一擴張計劃引發了全球晶圓制造行業的廣泛關注。據Tom's Hardware報道，臺積電、英特爾和三星電子等半導體巨頭或將從中受益。ASML的擴張如果能按計劃推進，將有助于滿足全球對極紫外光（EUV）光刻設備的迫切需求，從而加速先進制程的開發與應用。Brainport產業園區的擴張計劃大約在一年前首次公開。據荷蘭消
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據媒體報道，荷蘭半導體設備制造商ASM International（簡稱“ASM”）在2025年第一季度財報電話會議上宣布，將立即啟動在美國本土的生產計劃，以應對美國近期實施的關稅政策。今年4月初，美國總統特朗普簽署了一項“對等關稅”行政令，宣布對包括荷蘭在內的歐盟成員國加征25%的鋼鐵、鋁和汽車進口關稅，其他商品則面臨20%的關稅。這一政策覆蓋了歐盟對美出口的約70%，總價值高達5320億歐元。此外，特朗普還計劃對暫時豁免的藥品、半導體等產品單獨加征關稅。為避免關稅影響，ASM首席財務官Paul Ver
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三星電子和ASML曾于2023年12月宣布共同投資7億歐元（約1萬億韓元），在大都市地區建立極紫外（EUV）研究中心，致力于打造面向未來的半導體制造設備以保持三星在先進工藝制程技術的領先性。針對這次合作，ASML特別與韓國土地住宅公社（LH）簽訂了在京畿道華城購買6個地塊（約 19,000 平方米）的合同以建設研發中心。不過最近這項計劃可能出現了一些變動， ASML最近出售了其中的兩塊地塊，并且正在處理另外兩塊地塊。盡管還剩下兩個地塊，但ASML似乎沒有計劃在剩余的空間里與三星建立研發中心。 ASML 是
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三星電子 ASML EUV
阿斯麥（ASML）近日發布2025年第一季度財報。2025年第一季度，ASML實現凈銷售額77億歐元，毛利率為54%，凈利潤達24億歐元。第一季度的新增訂單金額為39億歐元2，其中12億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2025年第二季度凈銷售額在72億至77億歐元之間，毛利率介于50%至53%3；對2025年展望保持不變，預計全年凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%至53%。（除非特別說明，數字均以百萬歐元為單位）2024年第四季度2025年第一季度凈銷售額9,2637,742其中裝
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ASML 2025年第一季度財報
荷蘭半導體設備龍頭阿斯麥（ASML）今（16）日公布出第一季財報，顯示訂單金額大幅縮水至39.4億歐元，較上季銳減44.5%，凸顯半導體產業需求放緩的隱憂，也讓市場關注明（17）日臺積電的法說會。CNBC報導，ASML第一季凈銷售額為77.4億歐元，凈利達23.6億歐元，訂單金額為39.4億歐元，低于市場預期的48.2億歐元，較前季大幅衰退44.5%，其中極紫外光微影（EUV）機臺訂單金額為12億歐元。盡管訂單金額大減，但ASML執行長傅凱（Christophe Fouquet）表示，需求前景依然強勁，A
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