DUV光刻機(jī)出口許可被撤 ASML：中國訂單已全數(shù)交付

近日光刻機(jī)巨頭ASML發(fā)布公告稱，去年2型DUV光刻機(jī)已獲準(zhǔn)的出口許可證突然遭到撤銷，不過，中國大陸客戶預(yù)付購買DUV光刻機(jī)所積壓訂單基本都已完成交付。

據(jù)ASML指出，2023年NXT：2050i、NXT：2100i光刻系統(tǒng)的出貨許可證突然被撤銷，不過這沒有太多可以擔(dān)心的地方，因?yàn)?/span>2023年ASML基本已交付了中國大陸客戶預(yù)付的DUV積壓訂單，至于2023年之后是否能繼續(xù)出口DUV光刻，在此之前本就無法確定。

《快科技》報(bào)導(dǎo)說，事實(shí)上2023年ASML一直都在向中國客戶供應(yīng)光刻機(jī)，其中就包含了NXT:2000i和更先進(jìn)的DUV型號的產(chǎn)品。至于更先進(jìn)的7nm以下更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，ASML依然不能對中國客戶出售。

據(jù)ASML官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有3款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

報(bào)導(dǎo)說，ASML官網(wǎng)上關(guān)于TNXT:1980Di介紹中指出，它在分辨率方面不小于38nm（可以支持到7nm左右），而這是指一次曝光分辨率，事實(shí)上光刻機(jī)是可以進(jìn)行多次曝光。

至于DUV是否能進(jìn)行7nm以下更先進(jìn)的制程？據(jù)臺(tái)積電前研發(fā)副總林本堅(jiān)（Burn Lin）表示，依靠ASML的DUV光刻機(jī)，是可以繼續(xù)將制程工藝從7nm再推向5nm，但要付出非常高昂的代價(jià)，至少需要進(jìn)行4重曝光，耗時(shí)而且價(jià)格昂貴，還會(huì)影響整體良率。DUV最多可以做6重曝光，實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)的工藝，但問題與困難也會(huì)更多。