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    開始1-γ芯片制程開發?美光日本廠擬引入ASML光刻機

    作者: 時間:2023-05-18 來源:全球半導體觀察 收藏

    知情人士稱,美國科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭公司的先進芯片制造設備EUV(極紫外),以制造下一代存儲芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補貼。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202305/446738.htm

    日本經濟產業大臣西村康稔之后證實了在日的進一步投資。他指出,日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性,也有意在廣島開始大規模生產先進存儲芯片。

    今日(周四),日本首相岸田文雄會見了美光首席執行官Sanjay Mehrotra在內的芯片高管代表團,而有關芯片的詳細計劃可能在之后陸續宣布。

    自2013年以來,美光已經在日本投資超過130億美元,其中包括去年宣布的



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