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    ASML出貨超過100臺EUV光刻機 新制程時代來臨

    作者:芯研所 時間:2021-09-18 來源:ZOL 收藏

    芯研所消息,全球半導體的缺貨,進一步激發了上游半導體設備廠商的產能,據外媒報道截至第二季度, EUV設備出貨總量達到102臺,隨著需求量的提高和客戶群的擴大,預計2年內累計供應量將增加2倍以上,標志著EUV時代正式拉開帷幕。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202109/428342.htm

    據統計,過去四個季度(2020年第三季度-2021年第二季度), EUV設備出貨總計40臺,較之前四個季度(2019年第三季度-2020年第二季度)增長了66%。今年的出貨目標是40臺左右,下半年將供應25臺左右。

    ASML出貨超過100臺EUV光刻機 新制程時代來臨

    ASML擴大EUV設備供應響應了半導體制造業實現超微電路層的需求。盡管每臺設備的價格達到1.71億美元,但由于其卓越的工藝成本和省時效果,可以抵消設備采購的成本。業內人士指出,通過EUV可以降低設備成本和工藝成本,因此,在微加工領域引進EUV設備的企業越來越多。

    根據ASML的說法,5-7nm邏輯半導體(以每月45,000顆晶圓為基準)每個EUV層需要一臺EUV設備,16nm及以下節點DRAM(以每月100,000顆晶圓為基準)每個EUV層則需要1.5-2臺設備。三星電子計劃,到今年下半年為止,將14nm DDR5 DRAM的EUV應用層數從1層增加到5層,SK海力士也計劃增加EUV應用層數,因此,預計EUV設備的需求將進一步增加。

    除了EUV層的增加,EUV設備的客戶群也在逐漸擴大。繼2018年三星電子首次引進7nm制程的EUV設備后,臺積電和SK海力士也加入了EUV競爭。美國的美光和英特爾也在推進EUV設備的引進,預計市場規模將進一步擴大。



    關鍵詞: ASML EUV光刻機

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