Imec和ASML共同驗證用于沉浸式光刻的新型照明系統

　　Imec和ASML已合作驗證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統FlexRay，通過22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應用價值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i掃描光刻設備將安裝FlexRay產品，幫助imec進一步開拓沉浸式光刻技術的應用。