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    臺積電3納米FinFET 三星2納米恐難敵

    作者: 時間:2025-06-25 來源:中時電子報 收藏

    市場近期盛傳將押注資源發展,預計最快明年于美國德州廠率先導入制程,企圖彎道超車。 半導體業界透露,目前以GAAFET打造之,約為目前競爭對手4納米水平,分析效能恐怕不如最后也是最強一代之。 尤其再針對發展更多家族成員,包括N3X、N3C、N3A等應用,未來仍會是主流客戶之首選。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202506/471648.htm

    盤點目前智能手機旗艦芯片,皆使用臺積電第二代3納米(N3E),僅有Exynos 2500為自家3納米GAAFET; 各家業者今年預計迭代進入第三代3納米(N3P),據供應鏈透露,臺積電去年底N3P已進入量產階段,估今年整體產能將成長超過6成。

    供應鏈表示,包括再生晶圓、鉆石碟、特用化學品用量顯著提升,相關供應鏈如升陽半、中砂、頌勝科技; 其中,頌勝科技為少數半導體CMP制程研磨墊供應商,與國際大廠直接競爭。

    三星積極追趕,2納米制程預計最快將于今年底量產,并計劃明年首季率先在美國德州Taylor廠導入2納米; 看似彎道超車臺積電2納米落地美國時間,不過半導體業者指出,臺積電嚴守最先進制程于臺灣發展,未來在海外廠會以臺灣母廠(Mother Fab)為目標。

    IC設計業者透露,在整體芯片表現上,臺積電制程仍能達到更佳效果,如同樣以Arm Cortex-X925超大核心設計之天璣9400,頻率可達3.62GHz,優于Exynos 2500 3.3GHz之表現,在發表時間也領先約3季,三星代工明顯已無法滿足國際芯片大廠最先進之需求。

    供應鏈透露,為滿足客戶美國制造需求,臺積電亞利桑那州二廠進入加速階段,預計明年第三季進行機臺Move-in,未來也將攜手臺灣供應鏈大打國際杯,推動整體產業升級。

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