應用材料為20nm制程開發自主式缺陷檢測SEM

　　應用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系統，進一步推升在缺陷檢測掃描電子顯微鏡 (Scanning Electronic Microscope，簡稱SEM) 技術的領導地位，這是首款可供芯片制造商用于無人生產環境的缺陷檢測工具，能拍攝并分析20納米影響良率的缺陷。

　　據應材表示，SEMVision G5獨特的功能可識別并拍攝1納米畫素的缺陷，協助邏輯與內存客戶改善制程，比過去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。

　　SEMVision G5系統配備最先進的1納米畫素、無與倫比的影像質量及強大的分析引擎，是唯一的缺陷檢測掃描電子顯微鏡，能夠在極其困難的線路層上，一邊進行識別、分析及發現缺陷，卻同時能提高產出。另外，這套系統在區別真假警訊或真假缺陷方面樹立了全新的標竿，在測試中，這套系統遠比專業的操作員更為準確而快速，能讓客戶更快更常檢查更多晶圓，學習曲線更加速、提升良率也更迅速。

　　突破性的SEMVision G5為開放架構平臺，具有已定義之檢測策略鏈接庫，可動態結合接收自晶圓檢查系統的數據。此系統可自動建立新的檢測程序，這是超越其它競爭對手工具的主要優勢，因為其它廠商的工具需要以耗時的手動設定程序，針對每一種芯片類型分別建立檢測方式。這項功能對于晶圓代工客戶至為關鍵，因為他們必須在每年制造的數千種新芯片設計中達到良好的產能。