- 9月16日，中國科學院院長白春禮在國新辦發布會上介紹稱，“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此，首先要進行體制機制改革。他稱，目前已經設立了創新研究院、卓越創新中心、大科學中心和特色所四類機構，目的是根據科研性質不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置。“這個工作還沒有完，只是進行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構全部做完，
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華為 中科院 EUV 光刻機 ASML
- 相信大家都知道，在前幾天，ASML重磅官宣了一條大新聞，正式在中國寶島臺灣建設了第一家海外培訓中心—亞洲培訓中心，這家培訓中心標配了14名培訓技師，一年大約可以培養超過360名EUV光刻機操作工程師，能夠讓芯片生產加工企業更好的掌握和使用EUV光刻機，從而可以進一步提高5nm/3nm芯片的良品率，其實ASML在臺灣建設這座亞洲培訓中心，最大的目的就是為了直接幫助臺積電培養更多的光刻機操作工程師，因為在過去兩年時間里，ASML一共售賣了57臺EUV光刻機產品，其中臺積電就購得了30臺，占據著絕大部分的份額，
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臺積電 5nm EUV
- 24日，臺積電舉辦了第26屆技術研討會，并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說法，5nm工藝規劃了兩代，分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV（極紫外光刻）技術，并且已經在大規模量產之中。相較于N7，N5的功耗降低了30%、性能提升了15%，邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版，仍在開發中，規劃2021年量產，相較于第一代5nm，功耗進一步降低10%、性能提升5%，據稱面向高性能計算平臺做了優化。據手頭資料，臺積電的5nm有望應用在蘋果A14芯片（包括Apple Silicon PC處
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臺積電 5nm EUV
- 臺積電在高端制程技術上沖鋒陷陣，已經成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶，累計已經購買了 30 臺 EUV 設備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術培訓中心后，也在臺積電先進制程的重鎮臺灣臺南，成立 EUV 技術培訓中心。一臺EUV系統需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統，重量高達 180&nbs
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EUV 臺積電 ASML
- 日前，中國國際半導體技術大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進工藝的設備，EUV技術已經被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關鍵因素之一。Yen援引統計數據顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產量已經達到1000萬片。他說，EUV已經成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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Intel 臺積電 ASML EUV 光刻 摩爾定律
- 2020年因為全球經濟的問題，本來電子行業會下滑，但是晶圓代工場合不降反升，臺積電Q1季度營收大漲了30%，牢牢坐穩了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大，臺積電目前正在瘋狂增加EUV產能。臺積電2018年量產了7nm工藝，不過第一代7nm沒有EUV工藝加持，2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發，而今年的5nm工藝則會全面上馬EUV工藝。根據臺積電之前公布的數據，7nm及7nm EUV工藝目前每月的產能達到了11萬片晶圓/月，而5nm工藝的月
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華為 蘋果 5nm 臺積電 EUV
- 隨著時間邁入2020年中，以臺積電和三星為代表的芯片半導體也從7nm逐步向5nm進發，實際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝，表現相較7nm將會更上一層樓。很明顯在7nm時代，三星是落后于臺積電的，不過這家巨頭似乎想在5nm時代彎道超車，近日據媒體報道，三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。該工廠是三星在韓國國內的第六條晶圓代工產線，將應用先進的極紫外光微影（ExtremeUltravioletlithography，EUV）制程技術，拿7nmEUV工藝對比，三星5nmE
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三星 5nm EUV
- 臺積電上周發布了3月及Q1季度財報,營收同比大漲了42%,淡季不淡。不過接下來的日子半導體行業可能不太好過了,ASML的EUV光刻機已經斷貨,要延期交付,好在臺積電今年已經在5nm工藝上搶先三星了。根據ASML之前的報告,3月底他們下調了1季度營收預期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機也因為種種原因斷貨了,雖然訂單沒有取消,但是交付要延期了,三星、臺積電今年都不太容易快速擴張EUV產能。不過臺積電在這次危機中更有優勢地位,他們包
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EUV 臺積電5nm
- 據ZDnet報道，三星宣布，已成功將EUV技術應用于DRAM的生產中。
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三星 EUV DRAM
- 當前在芯片制造中最先進的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內存顆粒的生產中。這家韓國巨頭今日宣布，已經出貨100萬第一代10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶評估，這為今后高端PC、手機、企業級服務器等應用領域開啟新大門。得益于EUV技術，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復步驟，并進一步提升產能。三星表示，將從第四代10nm級（D1a）DRAM或高端級14nm級DRAM開始全面導入EUV，明年基于D1a大規模量產DDR5和LPDDR5內存芯片，預計會使12
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三星 DRAM EUV
- 只有引入EUV技術的6nm才是真正的6nm，而這項技術也將伴隨未來可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
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EUV 6nm 光刻機
- 近日，泛林集團發布了一項用于EUV光刻圖形化的干膜光刻膠技術。泛林集團研發的這項全新的干膜光刻膠技術，結合了泛林集團在沉積、刻蝕工藝上的領導地位及其與阿斯麥?(ASML) 和比利時微電子研究中心?(imec)?戰略合作的成果，它將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產率和良率。泛林集團的干膜光刻膠解決方案提供了顯著的EUV光敏性和分辨率優勢，從而優化了單次EUV光刻晶圓的總成本。由于領先的芯片制造商已開始將EUV光刻系統應用于大規模量產，進一步提升生產率和分辨率將幫助他們以更合理
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EUV 光刻
- 泛林集團與阿斯麥 (ASML) 和比利時微電子研究中心 (imec) 共同研發的全新干膜光刻膠技術將有助于提高EUV光刻的分辨率、生產率和良率。
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泛林 EUV 干膜光刻膠技術
- 作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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ASML EUV
- hello,大家好,歡迎來到阿洛伊科技華為將于2月24日21:00舉行在線新品發布會。在疫情爆發期間,手機制造商選擇在網上舉行發布會。據悉,此次發布會的主題是“共同未來”。從海報上看,本次大會將涵蓋多個類別,包括折疊手機、筆記本電腦、平板電腦、智能手表、智能家居等,不過,據媒體透露,本次大會將會有一個驚喜,即將發布最新的旗艦SOC麒麟820處理器。與上一代麒麟810相比,該處理器有哪些升級?讓我們看看。麒麟820處理器將采用cortex A76架構。不采用最新的cortex a77架構的主要原因是,ARM
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麒麟820 6納米 EUV
euv介紹
在半導體行業，EUV一般指EUV光刻，即極紫外光刻。
極紫外光刻（英語：Extreme ultra-violet，也稱EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長的光刻技術。
EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸。
根據瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長可以提供極高 [
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