- 最近，光刻機話題異常火熱，似乎全世界都在關注中國本土相關產業的發展。要想制造出一臺可商用的高端光刻機（可制造 7nm 及更先進制程芯片），是一項復雜的工程，因為高端光刻機所需要的精密零部件太多了，每一種的技術含量都非常高，而且，要想把這些零部件組合成一臺可用的機器，需要長期的技術和實踐積累。光刻這個概念，有廣義和狹義之分。在狹義層面，就是用光去「復印」集成電路圖案，這也是我們常說的光學光刻技術，特別是紫外線光刻技術（DUV 和 EUV）。在廣義層面，光刻泛指各種集成電路「復印」和「印刷」技術，這些技術中，
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光刻機
- 近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實現了光刻機國產化，并表示這個項目已經在雄安新區落地。對此，中國電子工程設計院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發聲，稱該項目并非網傳的國產光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎設施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設、將于2025年底投入使用。北京高能同步
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光刻機 高能同步輻射光源
- 當下，光刻機在半導體行業的地位前所未有的重要，而且已經突破了技術和產業范疇，引發了新一波光刻機之爭。從歷史發展情況來看，光刻機（這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機）的發展和應用經歷了很多波折，總體來看，有兩個值得關注的時期，一個是 ASML 依靠浸沒式技術，異軍突起，并將原本的行業兩強甩在身后，這是技術之戰，另一個是 EUV 商用化之后，先進制程（從 16nm 開始）爭奪戰打響，臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產量有限的 EUV 而展開競爭，這是商業之爭。從目前的情況來看，第三波光刻機之爭正
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光刻機
- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進式光刻機“NSR-2205iL1”，預計 2024 年夏季上市。據稱，這種光刻機具有縮小投影放大系統，支持功率半導體、通信半導體和 MEMS 等多種產品，并且與尼康現有的 i-line 曝光設備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進技術在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應客戶對這些在芯片制造中發揮重要作用的光刻系統的需求。尼康表示，與現有的尼康 i-line 曝光系統相比，NS
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尼康 光刻機
- IT之家 6 月 26 日消息，據日本經濟新聞報道，日本經產省與荷蘭經濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯手進行技術開發。▲ 圖源：ASML報道稱，ASML 量產尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經產省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Ra
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ASML 光刻機
- 知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設備EUV（極紫外光刻機），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。日本經濟產業大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規模生產先進存儲芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會見了美光首席執行官Sanjay Mehrotra在內的芯片高管代表團，而有關芯片的詳細計劃可能在之后陸續宣布。自201
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1-γ 芯片制程 美光 ASML 光刻機
- 5月17日消息，原本已經落后的日本半導體制造行業近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業出資成立了Rapidus，計劃2025年試產2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機，不論研發還是制造都要先買設備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過具體的型號及進度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時安裝、
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日本 EUV 光刻機
- 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機能夠達到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個數字，這是某機構統計的，2021年全球半導體前道光刻機的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺，另外的
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光刻機 ASML 尼康 佳能 上海微電子
- 受消費電子市場低迷影響，半導體產業邁入下行周期，上游半導體設備也因客戶去庫存、調整訂單受到影響。不過，光刻機龍頭企業ASML發布的最新財報顯示，盡管光刻機業務遭遇一定挑戰，但未來產業前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預期增長，半導體需求結構性分化4月19日，ASML發布2023年第一季度財報，該季ASML實現了凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤達20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元，其中16億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
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ASML 光刻機
- 據臺系設備廠商透露ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單，最重要的是大客戶臺積電也大砍逾4成EUV設備訂單及延后拉貨時間，2024全年業績將明顯承壓。根據ASML的財報顯示，今年一季度的凈銷售額為67.46億歐元，較去年同期的35.34億歐元大幅增加，接近翻番，較上一季度的64.3億歐元也有增加；凈利潤為19.56億歐元，較去年同期的6.95億歐元大幅增加，較上一季度的18.17億歐元也有增加。雖然凈銷售及利潤同比環比均有增加，但ASML在財報中也披露了不利的消息，其一季度的凈訂單只有37.52億歐元
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ASML 臺積電 7nm DUV 光刻機 出口 中國
- 3月28日，商務部部長王文濤會見荷蘭阿斯麥公司（ASML）全球總裁溫寧克。商務部官網消息，3月23日-28日，王文濤相繼會見了高通、蘋果、寶馬等超10家外企高管。王文濤強調，中國堅定不移推進高水平開放，愿為包括阿斯麥公司（ASML）在內的跨國公司來華發展創造良好營商環境，并提供高效服務。希望阿斯麥堅定對華貿易投資合作信心，為中荷經貿合作作出積極貢獻，并共同維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。雙方還就阿斯麥在華發展等議題進行了交流。證券時報·e公司記者留意到，上述會面距離3月8日荷蘭政府發布有關即將出臺的半導體
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- 半導體周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發表了講話，部分參與座談的大學發布了座談紀要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發、4000 + 電路板的反復換板開發等，直到現在電路板才穩定下來，因為有了國產的零部件供應。任正非表示，華為現在還屬于困難時期，但在前進的道路上并沒有停步。
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莫大康 半導體 華為 光刻機 NAND
- 半導體一周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發表了講話，部分參與座談的大學發布了座談紀要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發、4000 + 電路板的反復換板開發等，直到現在電路板才穩定下來，因為有了國產的零部件供應。任正非表示，華為現在還屬于困難時期，但在前進的道路上并沒有停步
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- 自從國產替代概念興起，很少關注半導體行業的人都對光刻機有所耳聞。目前，全世界最先進的芯片，幾乎都繞不開 ASML（阿斯麥）的 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）光刻機，但它又貴又難造，除了全力研發光刻機，國產有沒有其它的路可以走？事實上，光刻技術本身存在多種路線，離產業最近的，當屬納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，簡稱 NIL）。日本最寄望于納米壓印光刻技術，并試圖靠它再次逆襲，日經新聞網也稱，對比 EUV 光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和
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光刻機
光刻機介紹
國外半導體設備
我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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