350nm，俄羅斯光刻機制造完成

5月25日消息，據外媒報道稱，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克指出，該設備可確保生產350nm（0.35μm）的芯片。

圖片來源：塔斯社報道截圖

公開資料顯示，350納米尺寸芯片在當代較為落后，但是仍然可以應用于汽車、能源和電信等多個行業。該光刻機的研制成功對于俄羅斯未來實現自主生產芯片具有里程碑意義。

圖片來源：全球半導體觀察制圖

目前，全球光刻機的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。

據外媒公開消息，俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠，分別是Mikron和Angstrem公司，前者提供65-250nm芯片制造能力，后者（2019年破產重組）提供90-250nm芯片制造，擁有8英寸晶圓廠，兩家都以提供軍用、航天和工業領域芯片產品為主。因此，預計新的國產光刻機設備將會供應到兩家企業當中。

俄羅斯接下來的目標是在2026年制造可以支持130nm工藝的光刻機。之前俄羅斯表示，計劃到2026年實現65nm的芯片節點工藝，2027年實現28nm本土芯片制造，到2030年實現14nm國產芯片制造。