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    俄羅斯正在開發可替代光刻機的芯片制造工具

    作者: 時間:2023-10-10 來源:全球半導體觀察 收藏

    近期,國際新聞通訊社報道,在開發可以替代工具。據悉,圣彼得堡理工大學的研究人員開發出了一種“光刻復合體”,可用于蝕刻生產無掩模芯片,這將有助于在微電子領域技術領域獲得主動權。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202310/451351.htm

    該設備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設備,其中一種工具的成本為500萬盧布(約36.7萬元人民幣),另一種工具的成本未知。

    開發人員介紹,傳統光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業軟件控制,可實現完全自動化,隨后的另外一臺設備可直接用于形成納米結構,但也可以制作硅膜,例如用于艦載超壓傳感器。

    這不是俄羅斯首次對外公布有關的消息, 2022年10月,俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所就宣布朝領域展開工作,該研究所希望能開發俄羅斯首臺本土光刻機,用以生產7納米拓撲芯片。對此,業界認為,這需要數年時間才能實現。



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