佳能發布半導體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫幅 CMOS 制造等

IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發售了面向前道工序的半導體光刻機新產品 —— i 線步進式光刻機“FPA-5550iX”，該產品能夠同時實現 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場曝光。

據介紹，新產品“FPA-5550iX”能夠同時實現 50×50mm 大視場及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。

同時，通過充分利用高解像力與大視場的優勢，“FPA-5550iX”也可應用于頭戴式顯示器等小型顯示設備制造的曝光工序中。

此外，隨著先進的 XR 器件顯示器需求增加，該產品也可廣泛應用于大視場、高對比度的微型 OLED 顯示器制造。

新產品“FPA-5550iX”不僅能夠應用于半導體器件制造，也可以在最先進的 XR 器件顯示器制造等更廣泛的器件制造領域發揮其作用。

此外，“FPA-5550iX”的調準用示波器不僅具備檢測直射光的“明場檢測”功能，還新增了檢測散射光和衍射光的“暗場檢測”功能，用戶可根據使用需求選擇相應的檢測方法。通過可選波長范圍的擴大、區域傳感器的應用，加之可進行多像素測量，最終實現更低噪點的檢測效果，即使是低對比度的對準標記，也可以進行檢測。還可以應用于各類對準標記的測量，加強對用戶多樣制程的支持能力。比如，作為選裝功能，用戶可以選擇配備能夠穿透硅片的遠紅外線波長，以便在背照式傳感器制造過程中對晶圓背面進行對準測量。

IT之家注：調準用示波器是一種可以讀取晶圓上的對準標記并進行對準的顯微鏡。其原理是從對準光源將光照射到對準標記上，透過鏡頭，在區域傳感器上感光從而進行檢測。