Cadence與聯電合作開發28納米HPC+工藝中模擬/混合信號流程的認證

聯華電子今（6日）宣布Cadence?模擬/混合信號（AMS）芯片設計流程已獲得聯華電子28納米HPC+工藝的認證。 透過此認證，Cadence和聯電的共同客戶可以于28納米HPC+工藝上利用全新的AMS解決方案，去設計汽車、工業物聯網（IoT）和人工智能（AI）芯片。 此完整的AMS流程是基于聯電晶圓設計套件（FDK）所設計的，其中包括具有高度自動化電路設計、布局、簽核及驗證流程的一個實際示范電路，讓客戶可在28納米的HPC+工藝上實現更無縫的芯片設計。

Cadence AMS流程結合了經客制化確認的類比/數位驗證平臺，并支持更廣泛的Cadence智能系統設計?策略，加速SoC設計的卓越性。 AMS流程具有整合標準組件數字化的功能，非常適合數位輔助類比的設計，是客戶使用28納米HPC+工藝，開發汽車、工業物聯網和AI應用的理想解決方案。

經過認證的完整AMS流程包括Virtuoso?仿真設計環境（ADE），Virtuoso圖形編輯器，Virtuoso布局套件，Virtuoso空間基礎繞線器，Spectre?平行加速仿真器（APS），帶有整合Xcelium?平行邏輯仿真引擎的Spectre AMS Designer，Voltus?-Fi客制化電源完整性解決方案，Innovus?實施系統，Quantus?寄生效應萃取解決方案和物理驗證系統（PVS）。 該流程提供以下內容：

l前端設計：提供控角、統計和可靠性模擬; 電路和組件檢查，以及類比和混合信號仿真和驗證管理。

l客制布局設計：提供先進的電遷移和寄生感知環境，包括圖形驅動布局和模塊生成、線編輯器和引腳到主干的布線、符號置放、電子感知設計和壓敏規則。

l后布局的寄生模擬和電遷移及電位降（EM-IR）分析與整合簽核：包括寄生組件參數擷取，電路布局規則檢查(DRC)和電路布局驗證（LVS）檢查。

l混合信號OpenAccess：在單個OpenAccess設計數據庫上運行的Virtuoso和Innovus平臺之間實現完全互動能力，使混合信號設計人員能夠直接在Virtuoso環境內使用Innovus工具，且能無縫地執行數字區塊的實作。

Cadence的客制化IC與PCB部門產品管理副總Wilbur Luo表示:「Cadence與聯華電子合作，提供了經28HPC+技術認證的AMS整合設計流程，該技術基于Cadence業界領先的客制模擬/數字和簽核以及驗證平臺。此認證推動了SoC設計的卓越性，使得聯電的客戶得以利用先進的功能工具組，進行電路設計、性能與可靠性驗證、自動布局以及區塊和芯片整合，使他們能夠在汽車、工業物聯網和AI應用芯片設計上更有十足的把握。」

聯華電子量產就緒的28納米HPC+工藝采用高介電系數／金屬閘極堆棧技術，廣泛支持各種組件選項，以提升彈性及符合效能需求，同時針對多樣的產品系列，例如應用產品處理器、手機基頻、Wi-Fi，數字電視 / 機頂盒，毫米波等具備高介電系數／金屬閘極堆棧及豐富的組件電壓選項、內存字節及降頻／超頻功能，有助于系統單芯片設計公司推出效能及電池壽命屢創新高的產品。

聯華電子硅智財研發暨設計支持處林子惠處長同時表示:「透過與Cadence的合作，結合Cadence AMS流程和聯電設計套件，開發了一個全面而獨特的設計流程，為我們在28納米HPC+工藝技術的芯片設計客戶提供可靠與高效的流程。憑借此流程的功能優勢，提供用戶詳細說明，以利客戶透過聯華電子的流程提升生產力，可更快地將下一代的創新產品推向市場?！?/p>