• <li id="00i08"><input id="00i08"></input></li>
  • <sup id="00i08"><tbody id="00i08"></tbody></sup>
    <abbr id="00i08"></abbr>
  • 新聞中心

    EEPW首頁 > 業界動態 > 上海政府:芯片設計能力已達7nm 光刻機國際先進水平

    上海政府:芯片設計能力已達7nm 光刻機國際先進水平

    作者:憲瑞 時間:2019-05-24 來源:快科技 收藏

    半導體是國內目前大力發展的產業,也是國內公司對美國依賴最多的行業之一。在設計、制造及封裝三個環節中,國內公司在封測行業發展的還不錯,江蘇長電科技是全球第三大封測公司,TOP10廠商中有三家國內公司。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/201905/400835.htm

    上海政府:芯片設計能力已達7nm 光刻機國際先進水平

    國內比較薄弱的是半導體設計及制造,尤其是半導體工藝,目前臺積電、三星、Intel已經量產了10nm及7nm工藝,國內目前最先進的量產工藝還是28nm,14/12nm工藝尚未正式量產,差距至少有兩三代,而高性能芯片更依賴先進工藝。

    日前上海市政府舉行了新聞發布會,副市長吳清和上海市經信委總工程師張英分別介紹了上海加快建設具有全球影響力的科技創新中心五年以來的主要進展以及未來上海加快建設具有全球影響力的科技創新中心的計劃。

    吳清表示,2018年上海集成電路產業銷售規模達1450億元,占全國的1/5,目前在全力打造集成電路創新高地。

    根據吳市長的消息,在半導體設計領域,部分企業研發能力已達7納米,紫光展銳手機基帶芯片市場份額位居世界第三。

    在半導體制造領域,中芯國際、華虹集團年銷售額在國內位居前兩位,28納米先進工藝已量產,14納米工藝研發基本完成。

    在裝備材料領域,中微、上微處于國內領先水平,刻蝕機、等戰略產品已達到或接近國際先進水平



    關鍵詞: 芯片設計 7nm 光刻機

    評論


    相關推薦

    技術專區

    關閉
    主站蜘蛛池模板: 静安区| 松潘县| 新干县| 将乐县| 阳原县| 姚安县| 五常市| 石屏县| 肥东县| 张家港市| 通江县| 河北区| 荥经县| 武隆县| 凤阳县| 五台县| 司法| 金门县| 同仁县| 民权县| 射阳县| 海林市| 定西市| 南皮县| 衡阳市| 那坡县| 南召县| 社旗县| 青岛市| 抚州市| 黑山县| 综艺| 阜康市| 当阳市| 嵊州市| 开鲁县| 江陵县| 平邑县| 綦江县| 萨嘎县| 永泰县|