【IITC/AMC 2016】5nm工藝IC布線技術發展方向明確

　　由IEEEElectronDeviceSociety主辦的半導體互連(布線)技術相關國際會議“IEEEInternationalInterconnectTechnologyConference(IITC)2016”于5月23～26日在美國圣荷西舉辦。這是該會議時隔兩年再次回到美國，共有超過230人參加，展開了積極的討論。

　　IITC2016的論文數量為一般口頭演講(包括主題演講)45件，展板發表33件。一般演講按領域劃分，涵蓋硅化物的“MUP(MaterialsandUnitProcesses)-Metal”領域最多，占36%，其次是“MUP-ILD(絕緣膜)”領域的16%，體現出了與AMC(AdvancedMetallizationConference)聯合舉辦的效果。之后依次是“ProcessIntegration”領域和“NovelSystems”領域(均為14%)、“3DSystems”領域(12%)、“Reliability”領域(9%)。按機構劃分，產業界占37%、大學占29%，其余為研究機構。與2015年相比，產業界的論文有所增加，內容也大多是實現5nm工藝所需的更具現實性的技術。

　　在正式會議的前一天舉辦了工作會議，因為學會參加費包括了工作會議的費用，所以現場座無虛席。在會上，演講者介紹了銅布線的替代技術和新型輸送方式、腦型計算機等最新研究結果。在次日開幕的正式會議上，演講者按照上述領域劃分，發表了論文演講。Keynote(主題演講)的內容包括ProcessIntegration、MUP-ILD、MUP-Metal、Reliability、Contact&Silicide、3DSystems。下面就來介紹一下工作會議及正式會議的演講內容。

　　討論銅布線替代技術和新型輸送方式等

　　在工作會議上，演講者介紹了銅布線替代技術和新型輸送方式、腦型計算機等的最新研究成果。美國佐治亞理工學院、東電電子和imec在演講中談到了邏輯IC未來的微細化發展。佐治亞理工學院在演講中展示了基于實際芯片設計的計算結果，結果表明，對于FinFET和FET結構的下一個最有力候選VFET(VerticalFET)，布線的RC延遲的影響會進一步加大，需要設法調整布線結構。imec在演講中介紹了布線技術的發展路線圖，表示對于5nm工藝，Cu-RIE(Reactive-IonEtching)和半鑲嵌結構等新型銅布線結構的前景備受看好，而對于3nm以后的工藝，鎳(Ni)布線等替代金屬布線、新型輸送方式——碳材料(石墨烯、碳納米管等)和自旋前景光明。

　　另外，作為減少電力消耗的解決方法，佐治亞理工學院介紹了由細胞神經網絡與自旋組成的器件;美國加州大學伯克利分校介紹了參考生物的大腦活動，分層次按照功能設計電路的“hyper-dimensionalcomputing”。其目的都是要在半導體上模擬生物的神經元活動，構建功耗比CMOS更低的系統。美國斯坦福大學就片上硅光子發表報告，介紹了激光、調制器、波導和接收器等元件的最新研究內容。

　　英特爾開發出截至14nm節點的魯棒算法

　　在ProcessIntegration領域，英特爾、IBM、GLOBALFOUNDRIES和imec微電子研究中心等發表了演講。英特爾在主題演講和一般演講中，分別從電路設計和工藝技術的角度，介紹了魯棒算法的研究成果。主題演講中，英特爾以“Moore’sLawisnotaboutatechnology,butaneconomics”為題，強調單晶體管的單位成本還在不斷下跌，今后這一趨勢也不會改變。在介紹14nm節點之前的技術變遷時，英特爾表示，通過在芯片內集成有效電力和系統性變化的管理功能，該公司進行了魯棒性的設計。在一般演講中則圍繞實現魯棒性制造的工藝技術，介紹了采用SADP(Self-AlignedDoublePatterning)取代LELE(Litho-Etch-Litho-Etch)、為降低RC延遲而改變寬高比和減薄隔膜。

　　IBM在一般演講中講解了7nm節點的布線技術，介紹了通過組合EUV(ExtremeUltraviolet)、介電常數為2.45的ULK(UltraLow-K)、鈷(Co)襯套，形成節距為36nm的雙鑲嵌結構，達成可靠性規范與低布線阻力的情況。還展示了用來降低介電常數的SiNO膜、用來提高可靠性的氮化技術、CVD-Cocap技術等基礎技術。而GLOBALFOUNDRIES、imec和東電電子則披露了釕(Ru)布線的研究成果。研究涉及隔膜、襯膜、導電體等多種用途。imec在研究中對相當于5nm節點的布線結構進行了電阻率及可靠性驗證，得到的結果是優于銅布線。

　　對于實際芯片電路上TDDB的新解釋

　　絕緣膜TDDB(Time-Dependent-Dielectric-Breakdown，隨時間的擊穿特性)通常是根據加速實驗的結果，通過回歸曲線定義實際工作電壓下的壽命。但隨著絕緣膜開始采用ULK，各公司爭相提出“Emodel”、“Root-Emodel”、“PowerEmodel”等定義，展開了激烈的爭論。

　　臺積電將目光鎖定在加速電壓與實際工作電壓下TDDB測試的行為差異，作出了新的解釋。該公司注意到，實際工作電壓下不僅存在加速電壓下可以觀察到的缺陷成核，還存在表示缺陷正在生長的漏電流遷移。通過求出缺陷生長時間與電壓的相關關系，該公司發現，在實際電路中的TDDB壽命遠長于傳統加速試驗得到的預測壽命。

　　圍繞TSV和器件展開熱烈討論

　　在3DSystems領域，除了關于TSV(ThroughSiliconVia)的內容外，還有關于轉接板、3D存儲器等器件的發表。對于TSV技術，東電電子介紹了使用納米焦點X射線檢查設備觀察TSV內的孔穴、基于建庫的自動分類技術。

　　美國德克薩斯州大學奧斯汀分校對通孔直徑不同的樣品進行實驗的結果顯示，縮小TSV直徑并沒有達到提高可靠性的預期效果。美國BroadPak公司在關于2.5D/3D的演講中介紹稱，降低Si轉接板成本的關鍵，在于降低TSV曝光和金屬嵌入工序的成本。

　　碳材料與自旋研究進展顯著，課題趨于明確

　　關于曾經在IITC上討論過的“BeyondCu”主題，隨著研究的進展，各項技術的實用化課題逐漸明確。關于碳材料，在本屆會議上，imec和法國CEA-Leti研究中心通過計算和實驗結果，展示了碳材料的潛力。特別是石墨烯，計算結果顯示，以10nm寬的細線進行比較，10層的多層石墨烯布線能夠實現優于銅布線的RC延遲。

　　佐治亞理工學院和imec分別在工作會議上發表演講，指出了石墨烯存在的接觸電阻與單層電阻高、邊緣平滑度、基板造成的影響、維持平均自由程等課題。佐治亞理工學院表示，基于自旋的布線技術存在弛豫時間隨微細化變短的課題，需要采用新型電路方式。這些課題都是首次在IITC上提出，隨著相關研究的進展，實現的可能性估計會不斷攀升。

　　下屆(2017年)IITC將首次在臺灣舉辦，將于5月16日～18日期間在新竹市的國賓大飯店舉辦。