- 9 月，佳能推出了這項技術的第一個商業版本，有朝一日可能會顛覆最先進的硅芯片的制造。它被稱為納米壓印光刻 （NIL），能夠對小至 14 納米的電路特征進行圖案化，使邏輯芯片能夠與目前正在量產的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統提供的優勢可能會挑戰價值 1.5 億美元的機器，這些機器在當今先進的芯片制造中占據主導地位，即極紫外 （EUV） 光刻掃描儀。如果佳能是正確的，其機器最終將以極低的成本提供 EUV 質量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統完全不同，后者完全由總部位于荷
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納米壓印光刻技術 EUV? 佳能 新芯片制造系統
- 加州Nanolithosolutions公司日前獲得了惠普實驗室授權的一項納米壓印光刻技術，該技術可用于生產線寬只有15納米的電路板原型。
對此，公司首席執行官Bo Pi稱：“利用惠普的該項技術，我們可以從事生物芯片、光子芯片，以及相關應用的研究?！?
利用惠普的新技術，Nanolithosolutions已經開發出一套工具。該款工具包含一個模塊和掩模對準器，可用于創建基片上的晶體管模式。
據悉，該款工具簡單易用，成本低廉，可以將普通的掩模對準器變成高分辨率的納米壓印光刻機。
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納米壓印光刻技術 其他IC 制程
納米壓印光刻技術介紹
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