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    惠普向第三方授權納米壓印光刻技術

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    作者: 時間:2007-05-10 來源:計世網 收藏

      加州Nanolithosolutions公司日前獲得了惠普實驗室授權的一項,該技術可用于生產線寬只有15納米的電路板原型。

      對此,公司首席執行官Bo Pi稱:“利用惠普的該項技術,我們可以從事生物芯片、光子芯片,以及相關應用的研究。”

      利用惠普的新技術,Nanolithosolutions已經開發出一套工具。該款工具包含一個模塊和掩模對準器,可用于創建基片上的晶體管模式。

      據悉,該款工具簡單易用,成本低廉,可以將普通的掩模對準器變成高分辨率的納米壓印光刻機。



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