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    哪些半導體公司會成為22nm FD-SOI的嘗鮮者?

    作者: 時間:2015-08-20 來源:華強電子網(wǎng) 收藏

      宣布推出其全新的“”工藝平臺,成為全球第一家實現(xiàn)22nmFD-SOI(全耗盡絕緣硅),專為超低功耗芯片打造。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/279013.htm

      FD-SOI技術仍然采用平面型晶體管,目前并不為業(yè)內看好,因為無論Intel還是三星、臺積電,22n時代起就紛紛轉入了立體晶體管,也就是FinFET。技術實力欠佳,自己搞不出足夠好的立體晶體管技術,22nm上只能繼續(xù)改進平面型,20nm上努力了一陣放棄,14nm索性直接借用三星的。盡管如此,GF22nmFD-SOI工藝也是有一些獨特優(yōu)勢的,雖然無法制造高性能芯片,但也很適合移動計算、IoT物聯(lián)網(wǎng)、射頻聯(lián)網(wǎng)、網(wǎng)絡基礎架構等領域。

      宣稱,該工藝功耗比28nmHKMG降低了70%,芯片面積比28nmBulk縮小了20%,光刻層比FinFET工藝減少接近50%,芯片成本比16/14nm低了20%,而且功耗超低,電壓可以做到業(yè)界最低的0.4V,并可通過軟件控制晶體管電壓,還集成了RF射頻,功耗降低最多50%。甚至,它可以提供類似FinFET工藝的性能。哪些半導體公司會成為22nmFD-SOI的嘗鮮者呢?

      GF22nmFD-SOI工藝將于2016年下半年在德國德累斯頓工廠投產(chǎn),為此已投資2.5億美元。ARM、Imagination、意法半導體、飛思卡、VeriSilicon、IBS、Semeria、Soitec等都表達了支持,將會采納。

      意法半導體CEOJean-MarcChery表示:GLOBALFOUNDRIES的FDX平臺,使用的先進FD-SOI晶體管結構是我們長期的合作研究而來的,能滿足IoT對always-on和低功耗的需求,以及其它功耗敏感的設備的需求。

      飛思卡爾的MCUgroupVPRonMartino表示:飛思卡爾的下一代i.MX系列應用程序處理器利用FD-SOI工藝實現(xiàn)低功耗。GLOBALFOUNDRIES平臺將FD-SOI擴展到28nm以下,對成本和功耗都帶來顯著優(yōu)化。

      ARM物理設計部總經(jīng)理WillAbbey表示:我們正在與LOBALFOUNDRIES密切合作,提供客戶所需的IP生態(tài)系統(tǒng),幫助他們從技術中獲益。

      VeriSilicon總裁兼首席執(zhí)行官戴偉民表示:VeriSilicon已經(jīng)擁有利用FD-SOI技術實現(xiàn)IoTSoC的經(jīng)驗,我們已經(jīng)通過FD-SOI實現(xiàn)超低功耗的應用。我們期待與GLOBALFOUNDRIES在22FDX繼續(xù)合作。

      ImaginationTechnologies營銷副總裁TonyKing-Smith指出:GLOBALFOUNDRIES的22FDX與Imagination的廣泛IP組合結合后會賦予我們共同的客戶更多創(chuàng)新設計,這些IP包括PowerVR多媒、MIPSCPU和Ensigma通信。

      IBS公司創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官HandelJones表示,F(xiàn)D-SOI技術可以提供一個多節(jié)點、低成本方案,GLOBALFOUNDRIES的22FDX在一個低成本平臺上實現(xiàn)了FD-SOI技術的最低功耗。

      CEA-Leti公司首席執(zhí)行官Marie-NoelleSemeria表示,只需要對現(xiàn)有設計和制造方法進行微小調整,F(xiàn)D-SOI就能顯著改善性能和功耗。我們可以共同為相關技術提供易用的設計和制造技術。

      “Soitec首席執(zhí)行官PaulBoudre表示,對下一代的低功耗電子產(chǎn)品來說,這是一個關鍵的里程碑。作為GLOBALFOUNDRIES的戰(zhàn)略合作伙伴,我們的超薄SOI襯底已經(jīng)準備好應對22FDX技術量產(chǎn)。



    關鍵詞: GlobalFoundries 22FDX

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