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    泰克與遠(yuǎn)山半導(dǎo)體合作再結(jié)碩果,共推1700V GaN器件邁向新高度

    作者: 時間:2025-01-15 來源:EEPW 收藏

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    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202501/466380.htm

    近日,科技與的合作迎來又一重要里程碑,雙方攜手對最新推出的1700V 進(jìn)行了深入測試與評估,成果斐然,為該器件在高端應(yīng)用市場的拓展注入強(qiáng)勁動力。

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    此前,憑借其在高壓領(lǐng)域的持續(xù)創(chuàng)新,已成功推出多款產(chǎn)品,并逐步將額定電壓提升至1700V,這一電壓等級的突破,相較于1200V器件實(shí)現(xiàn)了顯著性能飛躍。為攻克常見的電流崩塌難題,遠(yuǎn)山半導(dǎo)體采用了獨(dú)具匠心的極化超級結(jié)(PSJ)技術(shù),并對生產(chǎn)工藝進(jìn)行了深度優(yōu)化,使得器件不僅額定工作電壓大幅提升至1700V,工作電流也達(dá)到了30A,為高功率應(yīng)用場景提供了更為強(qiáng)勁的“芯”動力。

    在此次合作測試中,科技憑借其先進(jìn)的測試設(shè)備與專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì),對遠(yuǎn)山半導(dǎo)體提供的1700V/100mΩ規(guī)格GaN樣品進(jìn)行了全方位、多維度的性能檢測。靜態(tài)測試結(jié)果顯示,該器件在1700V電壓下反偏漏電流Idss僅為4.48uA(Vgs = -8V),且在10uA漏電流條件下,Vds電壓成功突破1750V,擊穿電壓表現(xiàn)卓越,為器件的高可靠性運(yùn)行奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。

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    同時,作為常開型器件,其閾值電壓測試精準(zhǔn)可靠,當(dāng)Vds = 10V,Id = 1mA時,實(shí)測閾值電壓Vth穩(wěn)定在-4.1V,確保了器件在不同工作條件下的精準(zhǔn)控制。在導(dǎo)通狀態(tài)下,測試條件為Vgs = +3V,Id = 20A,電流脈寬300uS時,四線模式下實(shí)測導(dǎo)通電阻僅為107mΩ,遠(yuǎn)低于行業(yè)同類產(chǎn)品,展現(xiàn)出出色的導(dǎo)電性能。

    動態(tài)特性測試更是亮點(diǎn)紛呈。由于科技目前的GaN測試電路最大測試電壓為1000V,為確保測試安全,雙方在900V電壓條件下對該器件進(jìn)行了雙脈沖測試。測試條件為:Vds = 900V,Rgon = Rgoff = 2Ω,Vgson = 3V, Vgsoff = -8V, Id = 20A,負(fù)載電感L = 200uH。

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    測試波形清晰顯示,在900V高壓條件下,Vds波形在兩次導(dǎo)通階段內(nèi)保持穩(wěn)定低電壓,幾乎接近0V,充分證明了器件在高壓硬開關(guān)操作下未出現(xiàn)電流崩塌現(xiàn)象,其動態(tài)性能卓越,可靠性極高。

    為進(jìn)一步精準(zhǔn)測量功率器件在開關(guān)過程中的動態(tài)導(dǎo)通電阻值,泰克科技運(yùn)用鉗位探頭對器件進(jìn)行深入測量。鉗位探頭可有效過濾信號高壓部分,以較小量程精準(zhǔn)測量低壓部分,尤其適用于快速開關(guān)條件下,準(zhǔn)確測量導(dǎo)通條件下的器件兩端電壓降。通過電壓鉗位探頭測量得到的鉗位電壓Vds-clamp,結(jié)合導(dǎo)通電流Id,依據(jù)歐姆定律計(jì)算得出動態(tài)導(dǎo)通電阻D-Rdson。

    測試數(shù)據(jù)表明,在不同電壓條件下,器件的歸一化動態(tài)電阻隨測試電壓升高增加比例較小,300V、600V、900V時分別為1、1.07、1.18,彰顯了器件在高壓開關(guān)條件下穩(wěn)定的工作狀態(tài),其性能表現(xiàn)遠(yuǎn)超預(yù)期。

    此次測試結(jié)果充分展現(xiàn)了遠(yuǎn)山半導(dǎo)體1700V GaN器件的卓越性能,其各項(xiàng)指標(biāo)不僅刷新了市場對GaN器件的認(rèn)知,更是快速逼近甚至在部分性能指標(biāo)上超越了主流SiC功率器件。未來,隨著GaN器件在長期工作可靠性及成本優(yōu)勢方面的進(jìn)一步凸顯,有望在工業(yè)領(lǐng)域大放異彩,逐步實(shí)現(xiàn)對SiC功率器件的替代,開啟功率器件市場的新篇章。

    泰克科技與遠(yuǎn)山半導(dǎo)體的緊密合作,再次為半導(dǎo)體行業(yè)樹立了產(chǎn)學(xué)研用協(xié)同創(chuàng)新的典范。雙方將繼續(xù)攜手共進(jìn),不斷探索與突破,推動GaN器件技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步,為全球電子產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展貢獻(xiàn)更多力量。



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