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    ST和Exagan攜手開啟GaN發展新章節

    作者: 時間:2021-08-22 來源:CTIMES 收藏

    氮化鎵()是一種III/V族寬能隙化合物半導體材料,能隙為3.4eV,電子遷移率為1,700 cm2/Vs,而硅的能隙和電子遷移率則分別為1.1 eV和1,400cm2/Vs。因此,的固有特性,讓組件具有更高的擊穿電壓和更低的通態電阻,亦即相較于同尺寸的硅基組件,可處理更大的負載、效能更高,而且物料清單成本更低。
    在過去的十多年里,產業專家和分析人士一直在預測,GaN功率開關組件的黃金時期即將到來。相較于應用廣泛的MOSFET硅功率組件,GaN功率組件具備更高的效率和更強的功耗處理能力,這些優勢正是當下高功耗、高密度系統、巨量數據服務器和計算機所需要的。

    選用困境
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    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202108/427729.htm

    圖一 : GaN功率組件具備高效率和強大功耗處理能力的優勢。

    一方面隨著GaN組件人氣逐漸提升,而且頻繁地出現在日常用品當中,諸如手機充電器等終端產品的用戶都開始探索并了解GaN,開箱、拆解影片在社群軟件中持續曝光,而許多科技媒體更是不遺余力地介紹GaN產品各項優勢。
    但另一方面,GaN組件的特性也意味著在使用它時,開發人員需要有更縝密的設計,例如閘極驅動,電壓和電流轉換速率,電流等級,噪聲源和耦合規劃等對于導通和關斷所帶來的影響。因此,某些工業產品制造商仍會因擔心潛在PCB重新設計或采購問題而避免使用GaN。

    把握先機的重要性
    在了解到GaN的發展潛力后,開始強化在此復合材料上的投入和生態系統的研發。
    2020年3月,意法半導體()收購了的大部分股權。是法國的一家擁有獨特的外延層生長技術的創新型企業,而且是為數不多之有能力在8吋(200 mm)晶圓上大規模部署并制造GaN芯片的廠商。

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    圖二 : 并購是其長期投資功率化合物半導體技術計劃的一部分。

    ST并購Exagan是其長期投資功率化合物半導體技術計劃的一部分。此次收購提升了ST在車用、工業和消費性高頻大功率GaN的技術累積,其有助于開發計劃和業務擴大,透過與Exagan簽署的協議,ST將成為一家提供耗盡模式 / depletion-mode(D模式)和加強模式 / enhancement-mode(E模式)兩種GaN組件產品組合的公司。
    D模式高電子遷移率晶體管(HEMT)采用「常開」芯片結構,具有一條自然導電通道,無需在閘極上施加電壓。D模式則是GaN基組件的自然存在形式,一般是透過共源共閘結構來整合低壓硅MOSFET。另一方面,「常開」或E模式組件具有一條P-GaN溝道,需要在閘極施加電壓才能導通。這兩種模式都越來越頻繁地出現在消費性、工業、電信和汽車應用中。
    同年9月,ST推出首款MASTERGAN1,該系列產品采用半橋拓撲整合一個閘極驅動器和兩個加強式GaN晶體管,并且是目前市場上首見整合兩個加強式GaN晶體管的系統級封裝,為設計高成本效益的筆記本電腦、手機等產品電源提供新的選擇。

    加速GaN的大規模應用
    更大的晶圓,更高的規模經濟效益
    一項新技術只有在確保生產效率的條件才能得到大規模應用。在本世紀初,當半導體產業還在努力解決GaN晶體中因大量缺陷而導致組件無法應用的問題,在某種程度上取得一些成就并改善了情況。
    然而,只有制程不斷優化,工程師才能使用GaN功率組件來設計產品。Exagan的研發解決了這一問題 —在提升產品良率的同時,使用8吋晶圓加工芯片。
    Exagan負責協調PowerGaN系統和應用生態系統的產品應用總監Eric Moreau表示,當開始創辦Exagan時,就已經掌握了生長外延層的專業知識。但是Exagan的目標是想超越產業標準。當時,大家都在使用6吋(150mm)晶圓。如果能夠克服8吋晶圓的挑戰,Exagan將能提供大規模市場滲透所需的產品良率和規模經濟效益。

    如何利用現有的CMOS晶圓廠
    無論采用哪一種技術,工程師第一個考慮的是取得廠商的供貨保證,特別當設計產量很大的產品。在獲得Exagan的技術、外延制程技術和專業知識后,ST現在正在將這項技術整合至現有晶圓廠,而無需投入巨資采購專門的制造設備。工廠可以獲得更高的產品良率,更快速地提升產能—這意味著成本效益更高的解決方案和可靠性更高的供應鏈指日可待。

    技術融合升級對于產業的意義
    厚積薄發
    工程師想要說服管理者采用GaN,就必須證明GaN的價值主張。理論參數固然重要,但決策者更看重現實價值。有效展示電路性能是設計團隊解決這一挑戰的方法之一。事實上,GaN組件可以大幅降低導通和開關損耗,進而降低冷卻系統的物料列表成本。
    此外,更佳的開關性能就能使用更小、更輕的無源組件,即電容和電感。更高的功率密度則能讓工程師研發出更功率配置更緊密的系統(尺寸可縮小到四分之一)。因此,即使硅組件(MOSFET或IGBT)成本較高,GaN組件所能帶來的利益仍然讓其在競爭中處于優勢。
    透過收購Exagan,ST將擁有強大的GaN IP組合,能夠同時提供E型和D型兩種GaN產品,規劃明確之未來十年產品開發藍圖。ST GaN業務部門經理Roberto Crisafulli表示,「透過引進Exagan獨有的專業知識技術,ST將進一步鞏固其在GaN技術領域的地位。此舉將有助于強化ST在新型復合材料功率半導體領域之世界領先地位。」

    開路先鋒
    四十年前,隨著半導體產業開始用硅制造晶體管,硅被廣泛用于電子產品。正是有了這樣一個基礎,硅組件的創新至今方興未艾。
    如果制造商還看不到一項技術某些積極的成果,他們就不能找到合適的理由推動此項技術。透過整合和Exagan的技術后,ST有信心為未來的GaN投資和創新奠定穩固的基礎。簡而言之,今日的GaN就是40年前的硅,目前雖然還只是鋒芒初綻,但其發展潛力不可小覷。



    關鍵詞: ST Exagan GaN

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