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    臺媒:大陸DRAM突破技術障礙還得靠臺灣

    作者: 時間:2017-08-20 來源:集微網 收藏

      據臺灣經濟日報報道,大陸積極發展內存產業,但由于仍難突破三大廠的技術防線,在政策與時間壓力下,反而凸顯臺廠扮演關鍵少數的重要性,業界分析臺廠未來勢必成為大陸首要爭取合作的對象。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/201708/363233.htm

      大陸的內存產業,目前形成紫光集團、合肥睿力及福建晉華等三大勢力,但在美光發動司法調查,緊盯三大廠竊取專利和營業秘密行為后,日前紫光已表態未來將朝自主研發前進。

      另合肥睿力由前華亞科副總劉大維主導的團隊,仍如火如荼進行,并宣示明年要切入19nm生產;福建晉華則和合作,委托開發相關制程技術,生產利基型DRAM,團隊由瑞晶、美光臺灣前總經理,現任資深副總經理陳正坤領軍,同時出任福建晉華總經理。

      據了解,聯電為福建晉華在南科建立小型試產線,一度也遭美光司法調查暫停,但不久后又恢復運作,初期將導入32nm,最終目標要切入25nm以下制程。

      不過,業界透露,在美光強力透過美臺和大陸三地司法調查,大陸DRAM廠商遭遇相當大的瓶頸,難有突破,未來即使突破,也恐怕會遭遇美光、三星等大廠排山倒海的侵權訴訟。

      內存業界分析,大陸在DRAM遭遇技術重重阻力,反讓臺廠包括南亞科及華邦電等,成為大陸廠商爭相包產能的主要對象,原因包括聯想、華為、OPPO、VIVO,甚至海爾、TCL等計算機、手機和家電大廠,產品都營銷全球,多會尊重知識產權,不會貿然導入有侵權疑慮的大陸產內存。

      業界估計,在三星、SK海力士及美光都不愿轉換技術下,至少五年內,大陸DRAM廠都難以突破技術防線,而大陸傾全國力量發展內存,發展DRAM又勢在必行,在時間和技術取得的雙重壓力下,臺廠反而成為可以取得技術授權的管道,未來戰略地位值得重視。

      目前臺灣DRAM廠商南亞科目前在林口有二座12吋廠,其中3A廠30nm制程產品,有90%都是在美光科技技術基礎上自行研發設計;全新的3An廠,今年導入20nm制程后,5月取得客戶驗證,提前在今年第2季量產,目前良率相當好,預定今年底單月投片量達3萬片。



    關鍵詞: DRAM 聯電

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