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    紫光3D儲存型快閃記憶體廠武漢動工 總投資超240億美元

    作者: 時間:2017-01-03 來源:網絡 收藏

      中國集團宣布,投入快閃記憶體戰場,在武漢興建全球規模最大廠房,總投資金額超過240億美元,引發產業界震撼。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/201701/342396.htm

      集團董事長趙偉國:“我們在武漢投資兩百四十億美金的芯片工廠,已經正式動工,昨天我剛剛在成都,和四川省簽下了兩千億的協議。我們會在那里投資一個,也是一個超過兩百億美金芯片的工廠”

      2016年12月,集團趙偉國,布局半導體戰略,先是與成都市、新華集團共同簽署戰略合作協議,要在四川打造百億云計算中心。

      12月30日,紫光宣布動工,興建三座全球最大3D儲存型快閃記憶體(Flash)廠,地點選在武漢東湖高新區,占地1,968畝,投資金額240億美元,第一期計劃2018年建成啟用投產,2020年全部完工,月產能將達到30萬片,年產值超過100億美元。

      趙偉國:“來滿足中國本土市場,和國家戰略以及產業發展的需要。”

      這項投資計劃,引發市場震撼,尤其是投資方面,結合紫光集團、中國國家集成電路大基金,還有地方政府共同出資,可說以國家戰略推動,結合市場企業運作的合作模式。

      臺經院產業顧問 劉佩真:“不過如果就中長期來看,中國在記憶體的一個市場,勢必會進行零到壹的突破,勢必會打破目前Nand Flash,由韓國日本跟美國業者寡占的一個局面,其實都會帶來比較大的競爭壓力。”

      全球快閃記憶體主要廠商,包括南韓三星、SK海力士,美國旗下英特爾、美光,以及日本東芝,產量各自約占四萬片到十萬片,近期不約而同喊話加碼擴廠,如今紫光也宣布2018年投產下,恐怕引發產能競賽,市場供過于求。

      尤其紫光的下一步,恐怕將跨足DRAM制造,找來高啟全擔任重要高層干部,預料對半導體業界人才挖角態勢,會更加明顯。



    關鍵詞: 紫光 NAND

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