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    中芯國際28nm HKMG工藝成功流片

    作者: 時間:2016-02-17 來源:SEMI 收藏
    編者按:全世界能搞出來的也就那么幾家,進步已然神速。

      集成電路制造有限公司(/SMIC)2月16日宣布,28nm (高介電常數(shù)金屬閘極)工藝已經(jīng)成功流片。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/201602/287020.htm

      是中國大陸第一家能夠同時提供28nm PolySiON(多晶硅)、28nm 工藝的晶圓代工企業(yè)。與傳統(tǒng)的PolySiON工藝相比,技術(shù)可有效改善驅(qū)動能力,進而提升晶體管的性能,同時大幅降低柵極漏電量。

      與此同時聯(lián)芯科技宣布將基于中芯國際28nm HKMG工藝打造新的智能手機SoC芯片,包括移動處理器和基帶,CPU主頻達1.6GHz,目前已通過驗證,準(zhǔn)備進入量產(chǎn)階段。

      此外,中芯國際還將持續(xù)進行28nm技術(shù)平臺的開發(fā)及改善,預(yù)計2016年底推出基于HKMG工藝的緊湊加強型版本。



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