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    基于AT89C52的電化學(xué)工作站設(shè)計(jì)

    作者: 時(shí)間:2011-12-06 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

    摘要 在理論的基礎(chǔ)上研制了一臺(tái),它包括信號(hào)發(fā)生器、恒電位儀、數(shù)據(jù)采集部分、單片機(jī)及上位工控機(jī)。整個(gè)可對(duì)系統(tǒng)中電流、電位等信號(hào)進(jìn)行控制和測(cè)量,而且可以實(shí)現(xiàn)陰極保護(hù)功能。與傳統(tǒng)電化學(xué)相比,該工作站采用先進(jìn)的集成電路,系統(tǒng)誤差小、性能優(yōu)良,更因其在陰極保護(hù)方面的優(yōu)良表現(xiàn)使得該工作站具有較高的使用價(jià)值和市場(chǎng)前景。
    關(guān)鍵詞 電化學(xué)工作站;陰極保護(hù);導(dǎo)體電阻測(cè)量

    隨著工業(yè)的發(fā)展,金屬的使用越來越廣泛,但隨之而來的金屬腐蝕問題也不容忽視。因金屬腐蝕而導(dǎo)致的一系列事故,如天然氣管道泄露、雷擊燒毀設(shè)備等,給工業(yè)生產(chǎn)和日常生活帶來巨大的損失。在設(shè)備的腐蝕研究中,金屬設(shè)備的腐蝕大多數(shù)是以電化學(xué)為主進(jìn)行的,即Fe→Fe2++2e,研究Fe的電子得失速度就可以研究金屬的腐蝕速度。在過去的研究中,常采用的電化學(xué)研究方法是利用恒電位儀來檢測(cè)電極的電位和電流值,畫出電極的極化曲線,然后利用塔菲爾公式求出腐蝕速度。恒電位測(cè)試中,由于采用手動(dòng)操作,隨著腐蝕金屬表面狀況發(fā)生變化,電流數(shù)值漂移較大、讀數(shù)誤差大、測(cè)量速度慢,嚴(yán)重影響了測(cè)試效果。隨著電子產(chǎn)品的發(fā)展,人們將信號(hào)發(fā)生器、恒電位儀、對(duì)數(shù)轉(zhuǎn)換儀、函數(shù)記錄儀等組合在一起組成電化學(xué)工作站,這種工作站體積大、儀器多、系統(tǒng)誤差大。因此研制一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低廉、性能優(yōu)良的用于腐蝕檢測(cè)和研究的電化學(xué)工作站是必要的。

    1 硬件
    的電化學(xué)工作站整體硬件結(jié)構(gòu)如圖1所示。首先,單片機(jī)將電解池工作所需的電壓波形信號(hào)送入D/A轉(zhuǎn)換模塊,經(jīng)過D/A轉(zhuǎn)換后將波形電壓由外控輸入端送入恒電位儀,同時(shí)單片機(jī)控制繼電器的吸合與斷開,使恒電位儀在恒電位功能與恒電流功能之間切換。A/D轉(zhuǎn)換部分采集電化學(xué)工作站在工作過程中的電流和電位值,并將其送回單片機(jī),單片機(jī)再將數(shù)據(jù)發(fā)送到工控機(jī)儲(chǔ)存,以便于后續(xù)的數(shù)據(jù)處理。工控機(jī)也是整個(gè)系統(tǒng)的指令發(fā)出者,工控機(jī)將需要執(zhí)行的功能命令發(fā)送給單片機(jī),經(jīng)過單片機(jī)處理后,對(duì)相應(yīng)的模塊進(jìn)行控制。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/172378.htm

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    1.1 恒電位儀
    恒電位儀是電化學(xué)測(cè)試中的重要儀器,內(nèi)部含有恒電位和恒電流兩個(gè)功能模塊,通過繼電器進(jìn)行切換。當(dāng)控制信號(hào)為高電平時(shí),兩個(gè)繼電器斷開,電路實(shí)現(xiàn)恒電位功能;當(dāng)控制信號(hào)為低電平時(shí),兩個(gè)繼電器吸合,電路實(shí)現(xiàn)恒電流功能。
    1.2 信號(hào)發(fā)生器
    文中的信號(hào)發(fā)生器不同于傳統(tǒng)信號(hào)發(fā)生器,采用16位D/A芯片DAC8532,將單片機(jī)發(fā)送的數(shù)據(jù)進(jìn)行數(shù)模轉(zhuǎn)換,實(shí)現(xiàn)波形輸出。與RC、LC電路相比,該方法簡(jiǎn)單易行且穩(wěn)定性好。該模塊可以對(duì)波形的幅值、頻率及功率進(jìn)行調(diào)節(jié)。
    1.3 數(shù)據(jù)采集
    文中采用美國(guó)Maxim公司生產(chǎn)的逐次逼近型16位模數(shù)轉(zhuǎn)換器MAX1166進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。該芯片內(nèi)部集成了逐次逼近型ADC所必須的逐次逼近寄存器SAR、高精度比較器和控制邏輯外,還集成了時(shí)鐘、4.096 V精密參考源和接口電路。

    電化學(xué)工作站相關(guān)文章:電化學(xué)工作站原理

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