逐次逼近sar 文章 最新資訊

一種基于每周期兩位轉(zhuǎn)換的流水線逐次逼近ADC

• 隨著半導(dǎo)體制造工藝的革新與芯片供電電壓的下降，高性能的模數(shù)轉(zhuǎn)換器設(shè)計(jì)面臨新的挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)的逐次逼近SAR模數(shù)轉(zhuǎn)換器與流水線Pipelined模數(shù)轉(zhuǎn)化器難以實(shí)現(xiàn)高轉(zhuǎn)化速率、高精度與低功耗的性能指標(biāo)，常常需要犧牲某個(gè)指標(biāo)來滿足其他要求。針對傳統(tǒng)模數(shù)轉(zhuǎn)換器電路結(jié)構(gòu)在精度、轉(zhuǎn)換速率以及功耗方面的不足之處，提出了一種基于每周期兩位轉(zhuǎn)化的流水線逐次逼近12位5兆的ADC，采用兩級流水線結(jié)構(gòu)，第二級采用每周期兩位量化的SAR模數(shù)轉(zhuǎn)換器實(shí)現(xiàn)，可以充分利用輸入電壓幅值較小的特點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)整體電路性能的優(yōu)化，最終可在5兆的采樣速度
• 關(guān)鍵字： 逐次逼近SAR  模數(shù)轉(zhuǎn)換器  流水線Pipelined  模數(shù)轉(zhuǎn)化器  每周期兩位轉(zhuǎn)換  201807