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掩模版制造考驗(yàn)中國(guó)潔凈室設(shè)計(jì)建造水平

　　目前，我國(guó)潔凈廠房的整體發(fā)展速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于歐美國(guó)家，特別是設(shè)計(jì)、建造技術(shù)還存在很大的差距。電子行業(yè)潔凈廠房的建設(shè)雖然已經(jīng)發(fā)展到了一個(gè)全新的時(shí)代，但目前仍不得不面臨技術(shù)水平要求相對(duì)粗放，設(shè)計(jì)、施工周期相對(duì)緊迫的現(xiàn)狀。這使得精品工程少，能夠做精品工程的企業(yè)更少，許多企業(yè)都在追求利益最大化，工程質(zhì)量參差不齊。因此，越是規(guī)范的企業(yè)所承受的壓力越大。　　在電子行業(yè)，規(guī)范、精細(xì)化的要求將滲透到企業(yè)的每一個(gè)環(huán)節(jié)，同時(shí)對(duì)潔凈廠房的建設(shè)要求也會(huì)越來越高。凈化企業(yè)很難僅僅依靠?jī)r(jià)格優(yōu)勢(shì)、施工速度占領(lǐng)市場(chǎng)，而是要靠新技術(shù)和
關(guān)鍵字：電子信息掩模版 TFT-LCD

　　作為轉(zhuǎn)移微細(xì)圖形的工具，掩模版是TFT-LCD(薄膜晶體管液晶顯示器)制造過程中必不可少的材料，對(duì)TFT產(chǎn)業(yè)至關(guān)重要。由于當(dāng)前掩模版市場(chǎng)主要被國(guó)外企業(yè)所壟斷，我國(guó)要發(fā)展TFT產(chǎn)業(yè)，掩模版的國(guó)產(chǎn)化顯得尤為重要。　　掩模版是產(chǎn)業(yè)鏈重要環(huán)節(jié) 　　和集成電路的生產(chǎn)一樣，TFT-LCD在制造過程中也需要利用光刻工藝把沉積在基板上的薄膜(金屬、介質(zhì)或透明導(dǎo)電玻璃等)制作成一定的圖形，這種圖形轉(zhuǎn)移的母版就是掩模版。對(duì)于一種產(chǎn)品而言，其生產(chǎn)過程中有多少次光刻就需要多少?gòu)埐煌瑘D形的掩模版。　　TFT-LCD與
關(guān)鍵字： Micronic TFT-LCD 掩模版

　　發(fā)展TFT-LCD掩模版產(chǎn)品，不僅能帶動(dòng)多項(xiàng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，形成較為完整的產(chǎn)業(yè)鏈，而且可打破國(guó)外壟斷局面，提高國(guó)產(chǎn)化配套能力，全面提升整機(jī)產(chǎn)品的品質(zhì)和性能，大幅度降低整機(jī)制造成本，對(duì)推進(jìn)我國(guó)液晶顯示產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展及終端應(yīng)用產(chǎn)品的技術(shù)進(jìn)步具有積極意義。　　中國(guó)企業(yè)已掌握核心技術(shù) 　　TFT-LCD用掩模版也稱光罩或MASK，是TFT-LCD制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，它用于下游面板行業(yè)批量復(fù)制生產(chǎn)，主要應(yīng)用于TFT-LCD黃光段陣列及彩色濾光片的曝光工藝。　　清溢光電通過自主技術(shù)創(chuàng)新和體制創(chuàng)
關(guān)鍵字： TFT-LCD MASK 掩模版

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　　photomask 　　在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。 [ 查看詳細(xì) ]