- 三星電子與約翰霍普金斯大學應用物理實驗室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷卻技術的進展。Peltier器件通過利用珀爾帖效應進行冷卻，其中向半導體施加電流會導致一側冷卻，而另一側會升溫。由于這種方法不依賴制冷劑，因此它正在成為傳統冷卻系統的一種有前途的環保替代方案。通過首次利用新開發的薄膜 Peltier 半導體器件，并通過先進的納米工程技術進行增強，研究團隊成功創造并展示了高性能 Peltier 制冷機。這種薄膜 Peltier 制冷機的冷卻效率超過了傳統蒸汽壓縮系統的冷卻效率，為下一代無制
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高性能 Peltier 制冷設備
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