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    臺設備廠切入薄膜太陽能 非晶硅與CIGS為主流

    作者: 時間:2009-06-25 來源:DigiTimes 收藏

      臺系設備廠切入領域,目前主要以及銅銦鎵硒()領域為主,臺系設備業者指出,由于開發設備成功關鍵在于制程設備,其與半導體制程類似,為臺系業者欠缺之技術,開發難度遠較先期預期來的高,恐怕未來能在薄膜設備領域成功者僅少數。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/95648.htm

      臺系設備業者指出,目前切入設備者主流為兩大領域,多數大廠皆朝向開發Turnkey Solution,不過其中關鍵制程設備,就臺廠能力來說,還難以追上國際腳步。目前臺灣投入薄膜設備開發的包括均豪、盟立、志圣、廣運、富臨、帆宣、北儒等。

      設備業者指出,在薄膜設備中,核心的化學氣象沉積(PECVD)占整廠設備成本約6成,因此也被視為薄膜設備的成功關鍵,然而臺廠欠缺相關技術,現階段需購買國外設備來組裝,或與國外技轉,至于能開發PECVD之業者,大多有簽訂代工協議,不能自營銷售。

      至于在部分,牽涉多種化學原料,加上有毒性,不論采用蒸鍍或濺鍍制程,都有其困難之處,尤其國際上的量產實績并不多,技術還算不上成熟,因此開發難度更甚于。

      臺系設備業者指出,非晶硅目前尚有轉換效率需克服,至于CIGS轉換效率較高,然而爭議多,未來何者會成為主流,其實都尚難看出來,不過預期非晶硅薄膜設備需求將會先復蘇,至于CIGS則還需一段時間。

      業內高層認為,薄膜太陽能領域的投入方式,不是靠以往在產業的經驗就能成功,臺廠若仍以外圍設備為利基點,恐怕很容易為大陸同業取代。尤其美加設備廠各有其長才,若能互相結合,共同開發,將有助于加速發展腳步。



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