248nm增透膜國際領先：準分子激光器應用擴展

　　248nm準分子激光器技術由于輸出波長短、能量高、具有窄的脈寬和很高的峰值功率，在工業、國防等方面，尤其是高功率激光系統包括248nm光刻技術、激光醫療、激光精細加工中具有極廣的應用前景，也是ICF領域一個重要的技術選項。248nm薄膜元件是準分子激光系統中重要的薄膜元器件，其光學損耗和抗激光損傷性能對激光系統的效率起著重大或決定性的作用。

　　中國科學院上海光學精密機械研究所研究了LaF3、MgF2、Al2O3和SiO2薄膜的低吸收、低損耗蒸發沉積工藝，在此基礎上設計并制備了兩種248nm增透膜，增透膜的剩余反射率均小于0.1%。“天光”準分子激光系統將該所制備的增透膜元件與國際最重要，也代表最高國際水平的德國研制元件進行了損傷閾值對比測試，測試波長248nm，脈寬24ns。結果顯示，對比德國5.5J/cm2的損傷閾值，該所制備的LaF3/MgF2增透膜平均在7.5J/cm2，最高達到11J/cm2;Al2O3/SiO2制備的增透膜的損傷閾值平均在6J/cm2。證明上海光機所研制的248nm增透膜損傷閾值結果達到國際領先水平。

　　圖1. 兩種材料組合制備的248nm增透膜的光譜曲線

　　圖2. 248nm增透膜的損傷閾值對比測試結果