新SIW方形腔體雙膜濾波器的設計

根據多模激勵的單腔體諧振器原理以及基片集成波導(SIW)高Q值、低損耗、大功率容量的特點，提出了一種新的SIW方形腔體雙膜濾波器的設計方法。該方 法 通過在SIW腔體兩個對稱角上切角作為微擾來使簡并模式分離并產生耦合，從而形成了中心頻率在 4．95GHz的窄帶帶通濾波器，并最終采用直接過渡方式實現了SIW到微帶的轉換。

SIW的雙膜諧振器具有一對簡并模式，可以通過對諧振器加入微擾單元來使這兩個簡并模式分離，因此，經過擾動后的諧振器可以看作一個雙調諧電路。分離的 簡并模式產生耦合后，會產生兩個極點和一個零點。所以，雙膜濾波器在減小尺寸的同時，也增加了阻帶衰減。而且還可以實現較窄的百分比帶寬。可是，雙膜濾波 器又有功率損耗高、插入損耗大的缺點。為此，本文提出了一種新型SIW腔體雙膜濾波器的設計方法。

該SIW的大功率容量、低插入損耗特性正好可以對雙膜濾波器的固有缺點起到補償作用。而且輸入／輸出采用直接過渡的轉換結構，也減少了耦合縫隙的損耗。l 雙膜諧振原理及頻率調節

SIW是一類新型的人工集成波導，它是通過在平面電路的介質層中嵌入兩排金屬化孔構成的，這兩排金屬化孔構成了波導的窄壁，圖1所示是基片集成波導的結構示意圖。這類平面波導不僅容易與微波集成電路(MIC)以及單片微波集成電路(MMIC)集成，而且，SIW還繼承了傳統矩形波導的品質因數高、輻射損 耗小、便于設計等優點。

圖1 基片集成波導的結構

1．基片集成波導諧振腔

1．一般情況下，兩個電路的振蕩頻率越接近，這兩個電路之間的能量轉換需要的耦合就越小。由于諧振腔中的無數多個模式中存在著正交關系，故要讓這些模式耦 合 發生能量交換，必須對理想的結構加擾動。但是，為了保持場結構的原有形式，這個擾動要很小。所以，本文選擇了SIW的簡并主模TE102和 TE201，它們的電場分布圖如圖2所示。因為TM和TEmn(n10)不能夠在SIW中傳輸。因此，一方面可以保證在小擾動時就可以實現耦合，同時也可 以保證場的原有結構。

假設圖3所示的矩形腔體的長、寬、高分別為a、b、d。因為TEmn(n10)不能在SIW中傳輸，所以對于SIW諧振腔來說，其諧振頻率的計算公式如下：

對于具有相同諧振頻率的兩個模式來說，則有如下關系：

根據選定的工作簡并模式，利用公式(1)、(2)、 (3)來確定矩形波導諧振腔的初始尺寸，然后再結合有關文獻，就可以確定SIW腔體的尺寸。圖3所示是其金屬矩形諧振腔的基本結構。

雙膜SIW諧振腔及其頻率調節

圓柱形波導、矩形波導和微帶線都可以用來做雙膜濾波器。然而，一些典型的雙膜設計方法(如加調節螺釘、內角加工、在微帶貼片上加入十字槽等)并不適用于 SIW腔體。有文獻提到采用切角、打孔、饋電擾動等擾動方式來應用于SIW腔體。故此，本文選取了在SIW腔體對稱的角上切兩個相同的方形切角作為微擾方式。

擾動腔體的諧振頻率被分成f1和f2兩個高低不同的頻率，這兩個頻率的平均值(f1+f2)／2和原有腔體的諧振頻率f0往往不相等。類似地，輸入／ 輸出部分的耦合也會造成諧振頻率的平移。這樣就會造成兩種情況：一是(f1+f2)／2>f0；二是(f1+f2)／2 P>

是大于還是小于取決于耦合結構。對于第一種情況，可以通過加大諧振腔尺寸來調節頻率移動；而對于第二種情況，則可以通過減小諧振器尺寸或者在諧振腔上開 個縫來減少諧振腔等效尺寸等方法來調節。當然也可以不調節，分別針對這兩種情況加以利用。

在實際的工程應用中。要求 sλ／20，當SIW工作在高頻段時，為了滿足上述條件，往往要求金屬柱半徑以及它們之間的間距很小，以至于加工非常困難。而此時就可以利用第一 種情況，以較大的尺寸在較高頻率處實現良好的濾波性能，降低加工難度；而對于第二種情況，可以以更小的尺寸在較低的諧振頻率處實現良好的濾波性能，從而實 現濾波器的小型化。本文就是有效地利用了第二種情況，從而設計出性能好、尺寸小的濾波器。