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    Synopsys支持英特爾18A-P、E工藝技術

    作者: 時間:2025-04-30 來源: 收藏

    為 Intel Foundries 的 18A 和 更高性能工藝技術開發了生產就緒型設計流程。這些產品將于今年晚些時候進入量產,用于使用 RibbonFET 全環繞柵極 (GAA) 晶體管和第一個背面供電架構的 1.8nm 設計。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/202504/470028.htm

    兩家公司還致力于 14A-E 高效低功耗工藝的早期設計技術協同優化。這是 Intel Foundry 和 工程團隊之間廣泛設計技術協同優化 (DTCO) 努力的結果。

    還針對 Intel 18A 優化了其 IP,并擴展了對 Intel 的設計支持。 18A 工藝的每瓦性能比之前的 3nm 技術提高了 15%,面積增加了 30%。18-P 將提高性能,而 18-E 將增加密度。

    適用于 18A 和 的 AI 支持 EDA 參考流程具有統一的探索到簽核平臺,可加速嵌入式多晶片互連橋接 T (EMIB-T) 小芯片封裝技術的 2.5D/3D 多晶粒設計。

    這可用于最近推出的 Intel Foundry Accelerator Chiplet Alliance 以及 Intel Foundry Accelerator Design Service Alliance。

    EMIB-T 結合了 EMIB 2.5D 和 Foveros 3D 封裝技術的優勢,可在超過掩線限制的基板尺寸下實現高互連密度。EMIB-T 參考流程允許早期凸塊和 TSV 規劃和優化,具有自動 UCIe 和 HBM 布線。

    Synopsys IP 事業部高級副總裁 John Koeter 表示:“我們的生產就緒型 EDA 流程、IP 和多晶粒解決方案為我們的共同客戶提供了全面的技術,以加速開發滿足或超過其要求的芯片設計。

    英特爾代工生態系統技術辦公室副總裁兼總經理Suk Lee表示:“我們與Synopsys的持續合作使工程團隊能夠利用我們獨特的系統代工能力和優化的Synopsys EDA流程和Intel 18A-P工藝節點上的IP,加速'芯片系統'創新,以創建差異化設計,更快地獲得結果。

    Synopsys IP 和 EDA 流程還針對英特爾 18A 和英特爾 18A-P 工藝節點上的功耗和面積進行了優化,以使用熱感知分析來利用 PowerVia 背面電源。英特爾 18A 工藝節點上的 IP,包括 224G 以太網、PCIe 7.0、UCIe、USB4、嵌入式存儲器、邏輯庫、IO 和 PVT 傳感器。




    關鍵詞: Synopsys 英特爾 18A-P

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