納米尺度芯片Art DFM仿真平臺

基于65/45/40/28納米銅互連和28納米高k金屬柵CMP工藝及DFM設計規則，課題組開發了一套兼顧平坦化和寄生效應、完整兼容業界主流EDA工具的DFM仿真平臺，該平臺具有超大規模版圖快速處理，ECP/CVD/PVD/CMP工藝模擬、熱點輸出與反標等功能。通過對版圖進行CMP分析和檢查，找出存在熱點的區域進行冗余金屬填充，并根據設計需求進行修正，形成CMP模擬與參數提取相結合的DFM優化流程。DFM平臺解決了復雜超大版圖快速并行處理的技術難題，可以滿足65/45/40/28納米全芯片規模版圖處理的要求，該平臺性能達到業界先進水平，已通過代工廠和科研院所的嚴格測試與驗證，各項指標均達到工業界使用標準。DFM平臺可以集成第三方研究成果，模擬輸出能夠與業內主流寄生參數提取工具無縫連接，用于準確提取寄生參數，提高時序的收斂性。

                                                                                納米芯片DFM平臺