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    GLOBALFOUNDRIES代工意法半導體28納米和20納米芯片

    —— 意法半導體的FD-SOI芯片的量產和上市將起到至關重要的作用
    作者: 時間:2012-06-18 來源:IC設計與制造 收藏

      宣布,引領全球半導體技術升級的半導體代工廠商GLOBALFOUNDRIES將采用專有的FD-SOI(FullyDepletedSilicon-on-Insulator,全耗盡絕緣體上硅)技術為制造28納米和20納米芯片。當今的消費者對智能手機和平板電腦的期望越來越高,要求既能處理精美的圖片,支持多媒體和高速寬帶上網功能,同時又不能犧牲電池壽命。在設備廠商滿足消費者這些需求的努力中,意法半導體的FD-SOI芯片的量產和上市將起到至關重要的作用。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/133603.htm

      多媒體融合應用需要性能和能效兼備的半導體技術。隨著芯片外觀尺寸不斷縮小,傳統技術無法使晶體管的性能和電池壽命同時達到最高水準,無法在實現最優性能的同時確保溫度不超過安全限制。解決之道是采用FD-SOI技術,該技術兼備最高性能、低工作功耗(在各種應用中,降低電源功率后還能保持良好的性能)和低待機功耗。

      憑借其注重成本效益的平面型FD-SOI技術,意法半導體率先推出了28納米的全耗盡型器件,遙遙領先競爭對手。為FD-SOI貨源提供雙重保障,意法半導體與GLOBALFOUNDRIES簽訂了代工協議,以補充意法半導體位于法國Crolles工廠的產能。28n納米FD-SOI器件目前已商用化,預計于2012年7月前投入原型設計;而20納米FD-SOI器件目前處于研發階段,預計2013年第三季度投入原型設計。

      意法半導體的FD-SOI技術已被ST-Ericsson用于下一代移動平臺,這項技術將使ST-Ericsson的NovaThor平臺具有更高的性能和更低的功耗,在發揮最高性能的時候可降低功耗達35%。

      意法半導體計劃向GLOBALFOUNDRIES的其它客戶開放FD-SOI技術,讓他們能夠使用目前最先進的28納米和20納米技術研發產品。



    關鍵詞: 意法半導體 20nm 28nm

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