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    首爾半導體和飛利浦達成交叉許可協議

    —— 雙方能共享對方LED技術相關專利目錄中的很大部分
    作者: 時間:2011-12-04 來源:半導體制造 收藏

      日前,韓國首爾宣布與皇家飛利浦電子公司達成技術領域專利交叉許可協議。此協議解決了懸而未決的法律案件,進入一個覆蓋涉及兩家公司特定技術領域的專利的交叉許可協議。根據這項協議,雙方能共享對方技術相關專利目錄中的很大部分。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/126595.htm

      相關人士表示,“作為交叉許可協議其詳細信息通常是保密的,我們雙方也都同意不披露協議中的具體內容。”這項協議進一步證實了作為一個全球LED企業領導LED產業發展。我們現在專注LED創新技術,并且不斷推動質量和價值。通過和飛利浦簽訂專利交叉許可協議與建立合作關系,首爾半導體期望其技術可以在全球靈活使用,以滿足世界各地客戶的需要。

      此外,(John Bae)副總裁強調說:“首爾半導體最近推出Acrich 2,正在市場上得到突破性的反應,加上此次的專利交叉許可協議不僅可以增加銷售業績而且也能在LED領域中確保穩固地位。首爾半導體作為尊重專利的企業,日后為保護自己員工和很多投資者的專利權而與任何企業強力對應。”

      首爾半導體作為領導全球LED技術的企業,通過先前簽訂的專利協議確保其技術自由性并確保未來產品能脫穎而出。



    關鍵詞: 首爾半導體 LED

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