EUV光源廠商Ushio從Gigaphoton撤資

　　日本小松公司(Komatsu)與Ushio公司近日決定終止兩家公司有關EUV光刻機光源合資廠商Gigaphoton項目的合資合同。小松將從Ushio公司手中收購Gigaphoton余下的50%股份，這樣Gigaphoton將成為小松的獨資公司。

　　Gigaphoton原為小松和Ushio各占50%股份的合資公司,這家公司于2000年8月份成立，主要業(yè)務是開發(fā)，制造和銷售光刻機用準分子激光器光源，并為顧客提供服務，同時還有研發(fā)制造248nm/193nm(干式/液浸式系統(tǒng))光刻機。

　　目前為EUV光刻機開發(fā)光源的廠商主要包括Cymer，Gigaphoton, Ushio等幾家。其中Gigaphoton的主要研究方向是LPP型光源，即激光式等離子光源;而Ushio則主要致力于DPP光源即放電式等離子光源的研發(fā)。相比之下，另外一家EUV光源廠商Cymer的主要研究方向也是LPP型光源。

　　LPP光源的原理是采用激光束加熱工質生成等離子體，而DPP則采用電脈沖的方式來加熱工質生成等離子體。

　　而現(xiàn)在Ushio從Gigaphoton中撤資，這樣一來，兩家公司就要從原來的相互合作關系變成相互競爭的關系。

　　去年，Ushio公司收購了皇家飛利普電子公司的EUV光源業(yè)務部門，飛利浦公司已經將旗下的EUV光源業(yè)務全部轉交給其設在日本的EUV光源研發(fā)公司 Xtreme Technologies。自2008年起，Xtreme Technologies便一直在與飛利浦進行EUV光源技術方面的合作。

　　2005年，Ushio收購了Xtreme公司50%的股份，08年，這家公司開始與飛利浦共同研究EUV光源技術，同年，Ushio收購了Xtreme剩余的股份，將其變成自己全資控股的子公司。

　　EUV光刻目前是下一代光刻技術的首選，不過由于在光源，光阻膠，掩模技術以及量檢測技術方面遇到技術難題而數(shù)度后延了投入量產使用的時間，甚至有可能錯失在1xnm節(jié)點被啟用的大好時機。