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    上海華力微電子采用明導國際Calibre? RET和OPC計算光刻平臺

    —— 進行65/45nm工藝的開發和生產
    作者: 時間:2011-03-22 來源:電子產品世界 收藏

      (納斯達克代碼:MENT)今日宣布,由中國政府、上海聯創投資管理有限公司、上海華虹(集團)有限公司、上海宏力半導體制造有限公司以及上海華虹NEC電子有限公司等合資成立的晶圓代工企業上海華力微電子有限公司采用了Calibre® RET 和OPC計算光刻平臺,以支持其65、55和工藝的開發和生產。Mentor® Calibre nmOPC與Calibre OPCverify™產品是根據綜合技術標準對比選用的,Calibre方案被證明具有更高的精確度,更好的易用性,更低的擁有成本,以及更好的整體支持能力。

    本文引用地址:http://www.czjhyjcfj.com/article/117959.htm

      華力生產副廠長郭明升(Ming-Sheng Guo)表示:“作為一家新成立的晶圓代工企業,華力在制定可以投入生產的RET和OPC方案時面臨著陡峭的學習曲線和嚴峻的時間限制。憑借其對華力技術交付及技術支持方面的堅定承諾脫穎而出。我們之所以選擇作為獨家合作伙伴,在于它能夠滿足我們極具挑戰性的技術、時間和成本要求。我們相信該合作關系對建立在當今代工市場領域中具備競爭力的后GDSII流片流程至關重要。”

      明導國際公司“從設計到晶片”事業部副總裁兼總經理Joseph Sawicki說:“最先進的技術和幫助客戶取得成功的不懈努力,使明導國際在集成電路制造領域具備優勢。Calibre OPC / RET / MDP是業內最常用的生產應用軟件平臺,該平臺使華力擁有了完整的光掩膜數據準備流程,并能在統一平臺及一致的環境中進行OPC的研發和量產。”



    關鍵詞: 明導國際 45nm

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