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    20nm 文章 最新資訊

    20nm之后將采取三維層疊技術

    •   在今后的2年~3年內,NAND閃存的集成度仍將保持目前的發展速度。具體來說,到2011年~2012年,通過采用2Xnm的制造工藝與3位/單元~4位/單元的多值技術,NAND閃存很有可能實現128Gb的容量。   但是,如果要實現超過128Gb的更大容量,恐怕就需要全新的技術。目前正在量產的NAND閃存通常都使用浮柵結構的存儲單元。許多工程師也認為,2011年~2012年將量產的2Xnm工藝及其后的20nm工藝仍可采用現有的浮柵結構的存儲單元。但據SanDisk公司分析,當工藝發展到20nm以下時,從
    • 關鍵字: SanDisk  20nm  NAND  
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    20nm介紹

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