- 原子層沉積(ALD, Atomic Layer Deposition)工藝，是當前及未來工藝節點相關的收縮及更復雜器件幾何形狀上沉積薄層材料的關鍵技術。如今，隨著技術節點以驚人的速度持續進步，精確而又高效地生成關鍵器件特征成為了一項持久的挑戰。 原子層沉積工藝依靠專業的高性能原子層沉積閥在數百萬個脈沖中輸送精確的化學品劑量，構建形成材料層。為了達到原子級精密度和高生產良品率，輸送這些脈沖式化學品劑量的閥門必須日益精確且一致。世偉洛克一直致力于此，不斷刷新ALD閥使用壽命、響應時間、高溫高流量應用
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原子層沉積 ALD 世偉洛克 超高純隔膜閥
超高純隔膜閥介紹
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