等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng) 文章 最新資訊

應用材料公司推出等離子體強化化學氣相沉積系統(tǒng)

• 　　近日，應用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等離子體強化化學氣相沉積) 系統(tǒng)，它能實現(xiàn)在45納米及更小技術節(jié)點的器件上生產(chǎn)速度更快的晶體管所需要達到的應力水平，是應力工程技術(Strained engineering technology) 的一個巨大進步。該系統(tǒng)結(jié)合應用材料的Nanocure™ UV（紫外線）處理技術以及改進型氮化物沉積反應腔，把薄膜張力提高了超過30%，達到了業(yè)界領先的1.7GPa等級，并可擴展至超過2.
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