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DUV曝光機光阻劑力拼島內(nèi)自給 核心材料明年供臺積電、聯(lián)電
- 中國臺灣自研重點放在半導體關(guān)鍵材料自主化，9家廠商年底將進行終端產(chǎn)線驗證。 最快明年深紫外光（DUV）曝光機的光阻劑核心材料，可打入臺積電、聯(lián)電等代工大廠產(chǎn)線中。微影制程是在晶圓上制作電路圖案，隨著精細度有DUV、EUV（極紫外光）差別。 光阻劑是一種光敏感材料，由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，乃微影不可或缺重要材料。 至于曝光機的光罩部份，島內(nèi)像是家登都有生產(chǎn)，比例已不低。但過去晶圓代工制程曾發(fā)生過光阻劑大缺貨，為了把關(guān)鍵材料掌握在自己手中，島內(nèi)推動兩期半導體先進制程與封裝材料研發(fā)。 第一期202
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