- 中國集成電路發展的“藍圖”即將面世。記者從近日舉行的2019中國（上海）集成電路創新峰會院士圓桌會議獲悉，上海將牽頭制定“中國集成電路技術路線圖”，擔綱重任的是國家集成電路創新中心。
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集成電路 科技創新中心 光刻工藝
- 圖形化工藝是要在晶圓內和表面層建立圖形的一系列加工，這些圖形根據集成電路中物理“部件”的要求來確定其尺寸和位置。 圖形化工藝還包括光刻、光掩模、掩模、去除氧化膜、去除金屬膜和微光刻。圖形化工藝是半導體工藝過程中最重要的工序之一，它是用在不同的器件和電路表面上建立圖形的工藝過程。這個工藝過程的目標有兩個： 1. 在晶圓中和表面上產生圖形，這些圖形的尺寸在集成電路或器件設計階段建立?！ ?. 將電路圖形相對于晶圓的晶向及以所有層的部分對準的方式，正確地定位于晶圓上。 除了兩個結果外，有許多工藝變化。
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光刻工藝 晶圓
光刻工藝介紹
光刻(photoetching)是通過一系列生產步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝在此之后，晶圓表面會留下帶有微圖形結構的薄膜。被除去的部分可能形狀是薄膜內的孔或是殘留的島狀部分。
光刻工藝也被稱為大家熟知的Photomasking, masking, photolithography, 或micr 光刻
olithography。在晶圓的制造過程中，晶體三極管、二極管、電容、電阻和金屬 [
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